[发明专利]在金属基材表面形成氧化铝层的方法

权利要求书

1.一种在包含铝的金属合金基材(11)的表面上形成氧化铝层(14)的方法，所述方法至少包括：

-在金属基材的表面上沉积第一铝层(12)，

-通过气相沉积在第一层上沉积第二层(13)，所述第二层包含铝、卤素和氧，以及

-在氧化气氛下对涂有第一层和第二层的基材进行热处理，以在金属基材的表面形成氧化铝层。

2.如权利要求1所述的方法，其中，第一铝层(12)的厚度e₁在20nm至1000nm之间。

3.如权利要求1或2中任一项所述的方法，其中，所述卤素是氟。

4.如权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，通过选自物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积和表面硬化的方法沉积第二层。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述第二层(13)的厚度大于或等于10μm。

6.如权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述第二层(13)由包含氧、卤素气体和铝的气相沉积。

7.如权利要求6所述的方法，其中，通过在包含氧和卤素气体的气氛中对包含铝的靶(105)进行溅射来沉积第二层(13)。

8.如权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，所述热处理在高于或等于800℃的温度下进行。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中，所述金属基材(11)是铝化钛基合金。

10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其中，所述金属基材(11)是涡轮机部件。

11.一种经过涂覆的金属基材，其包含：

-包含铝的金属合金基材(11)，

-在金属基材表面上的第一铝层(12)，和

-包含铝、卤素和氧的第二层(13)，所述第二层涂覆于第一层。

12.如权利要求11所述的金属基材，其中，第一层(12)的厚度e₁在20nm至1000nm之间。

13.如权利要求11或12中任一项所述的金属基材，其中，第二层(13)包含式AlO_nF_m的化合物，其中n和m各自严格地为正数。