[发明专利]用于制造用于微透镜阵列的光阑阵列的方法在审

专利信息
申请号: 202080036249.1 申请日: 2020-04-22
公开(公告)号: CN113826031A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: W·卡斯特罗-里维拉;B·维勒克 申请(专利权)人: 海拉有限双合股份公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;B29D11/00;F21S41/43
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 吕晨芳
地址: 德国利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 制造 透镜 阵列 光阑 方法
【权利要求书】:

1.用于制造用于微透镜阵列(2)的、尤其是用于车辆前照灯的微透镜阵列(2)的光阑阵列(1)的方法,该方法至少包括以下方法步骤:

——提供(100)具有设置在第一晶片表面(31)上的微透镜阵列(2)的晶片(3),

——借助遮盖掩模(4)掩蔽(200)晶片(3)的第二晶片表面(32),其中,遮盖掩模(4)包括光阑阵列(1)的负模,

——用不透明层(10)涂覆(300)所述掩蔽的晶片表面(32),

——移除(400)所述遮盖掩模(4)并且获得在所述第二晶片表面(32)上的光阑阵列(1)。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积由一种金属或一种金属合金制成的不透明层(10)。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积由铬制成的不透明层(10)。

4.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积不透明层(10),其中,层厚度为50nm至500nm和/或100nm至200nm。

5.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,借助物理气相沉积方法实施所掩蔽的晶片表面(32)的涂覆(300)。

6.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在掩蔽(200)时使用具有光阑阵列的负模的遮盖掩模(1),其中,光阑阵列(1)的单个光阑(11)的负模的长度(12)为0.1mm至5mm。

7.用于车辆前照灯的结构组合件(50),所述结构组合件至少包括微透镜阵列(2)和光阑阵列(1),其特征在于,所述光阑阵列(1)借助根据上述权利要求中任一项所述的方法来制造。

8.根据权利要求7所述的结构组合件(50),其特征在于,该结构组合件(50)包括第一微透镜阵列(2a)、第二微透镜阵列(2b)以及设置在它们之间的光阑阵列(1),其中,光阑阵列(1)作为场光阑阵列设置在所述第二微透镜阵列(2b)的焦平面中。

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