[发明专利]用于制造用于微透镜阵列的光阑阵列的方法在审
申请号: | 202080036249.1 | 申请日: | 2020-04-22 |
公开(公告)号: | CN113826031A | 公开(公告)日: | 2021-12-21 |
发明(设计)人: | W·卡斯特罗-里维拉;B·维勒克 | 申请(专利权)人: | 海拉有限双合股份公司 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;B29D11/00;F21S41/43 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 吕晨芳 |
地址: | 德国利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制造 透镜 阵列 光阑 方法 | ||
1.用于制造用于微透镜阵列(2)的、尤其是用于车辆前照灯的微透镜阵列(2)的光阑阵列(1)的方法,该方法至少包括以下方法步骤:
——提供(100)具有设置在第一晶片表面(31)上的微透镜阵列(2)的晶片(3),
——借助遮盖掩模(4)掩蔽(200)晶片(3)的第二晶片表面(32),其中,遮盖掩模(4)包括光阑阵列(1)的负模,
——用不透明层(10)涂覆(300)所述掩蔽的晶片表面(32),
——移除(400)所述遮盖掩模(4)并且获得在所述第二晶片表面(32)上的光阑阵列(1)。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积由一种金属或一种金属合金制成的不透明层(10)。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积由铬制成的不透明层(10)。
4.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在涂覆(300)所掩蔽的晶片表面(32)时沉积不透明层(10),其中,层厚度为50nm至500nm和/或100nm至200nm。
5.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,借助物理气相沉积方法实施所掩蔽的晶片表面(32)的涂覆(300)。
6.根据上述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,在掩蔽(200)时使用具有光阑阵列的负模的遮盖掩模(1),其中,光阑阵列(1)的单个光阑(11)的负模的长度(12)为0.1mm至5mm。
7.用于车辆前照灯的结构组合件(50),所述结构组合件至少包括微透镜阵列(2)和光阑阵列(1),其特征在于,所述光阑阵列(1)借助根据上述权利要求中任一项所述的方法来制造。
8.根据权利要求7所述的结构组合件(50),其特征在于,该结构组合件(50)包括第一微透镜阵列(2a)、第二微透镜阵列(2b)以及设置在它们之间的光阑阵列(1),其中,光阑阵列(1)作为场光阑阵列设置在所述第二微透镜阵列(2b)的焦平面中。
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