[发明专利]分析装置在审
申请号: | 202080036382.7 | 申请日: | 2020-06-26 |
公开(公告)号: | CN113841041A | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 涩谷享司;滨内翔太;西贝大树 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场制作所 |
主分类号: | G01N21/31 | 分类号: | G01N21/31;G01N21/01;G01J3/42;G01N21/39 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 李成必;李雪春 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分析 装置 | ||
1.一种分析装置,其特征在于,
所述分析装置向导入有试样的池照射光,检测透过该池后的光,分析所述试样中包含的测定对象成分,
所述分析装置具备:
多个光源,至少包括第一光源、第二光源以及第三光源;以及
光学系统,将各所述光源的光导向所述池,
所述光学系统具备:
第二光源用光学元件,对所述第一光源的光进行反射,并且使所述第二光源的光透过;以及
第三光源用光学元件,对被所述第二光源用光学元件反射后的所述第一光源的光以及透过所述第二光源用光学元件后的所述第二光源的光进行反射,并且使所述第三光源的光透过。
2.根据权利要求1所述的分析装置,其特征在于,
各所述光学元件的至少一个是具有光楔的光学元件。
3.根据权利要求1或2所述的分析装置,其特征在于,
所述分析装置还具备第二光源用反射镜,所述第二光源用反射镜对被所述第二光源用光学元件反射后的所述第一光源的光以及透过所述第二光源用光学元件后的所述第二光源的光进行反射,
所述第三光源用光学元件对被所述第二光源用反射镜反射后的所述第一光源的光以及所述第二光源的光进行反射。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述光学系统还具备第一光源用反射镜,所述第一光源用反射镜对所述第一光源的光进行反射,
所述第二光源用光学元件对被所述第一光源用反射镜反射后的所述第一光源的光进行反射。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述光学系统还具备第三光源用反射镜,所述第三光源用反射镜对被所述第三光源用光学元件反射后的所述第一光源的光和所述第二光源的光、以及透过所述第三光源用光学元件后的所述第三光源的光进行反射。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的分析装置,其特征在于,
各所述反射镜以及各所述光学元件以反射的光的入射角度成为小于45度的方式配置。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述第一光源、所述第二光源以及所述第三光源射出的光的波长彼此不同。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述第一光源、所述第二光源以及所述第三光源按射出的光的波长从短到长的顺序配置,
所述第二光源用光学元件使所述第二光源的波长以上的光透过,
所述第三光源用光学元件使所述第三光源的波长以上的光透过。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述第一光源、所述第二光源以及所述第三光源按射出的光的波长从长到短的顺序配置,
所述第二光源用光学元件使所述第二光源的波长以下的光透过,
所述第三光源用光学元件使所述第三光源的波长以下的光透过。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的分析装置,其特征在于,
所述分析装置具备:
光检测器,检测透过所述池后的光的强度;
相关值计算部,计算和由所述光检测器检测到的光的强度关联的强度关联信号与和该强度关联信号取得规定的相关的特征信号的相关值;以及
浓度计算部,使用所述相关值,计算所述测定对象成分的浓度。
11.根据权利要求1至9中任一项所述的分析装置,其特征在于,
各所述光源射出以规定的调制频率调制后的调制光,
所述分析装置还具备:
光检测器,检测透过所述池后的光的强度;
频率成分提取部,从和由所述光检测器检测到的光的强度关联的强度关联信号提取所述调制频率的n倍的频率成分,n为1以上的整数;以及
浓度计算部,基于所述频率成分提取部的频率成分提取结果,计算所述测定对象成分的浓度。
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