[发明专利]三维打印的系统和方法有效

专利信息
申请号: 202080038128.0 申请日: 2020-06-12
公开(公告)号: CN113924203B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 史卓鹤;杨尚佑;刘孟翰;林依禾;朱光 申请(专利权)人: 清锋(北京)科技有限公司
主分类号: B29C64/277 分类号: B29C64/277;B29C64/393;B33Y30/00;B33Y50/02
代理公司: 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 代理人: 丁晓龙
地址: 100089 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 三维 打印 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种光固化三维打印系统,包括:

处理设备,被配置为确定物体的一层或以上打印层;

微型发光二极管阵列,被配置为为所述一层或以上打印层中每一层产生光,所述微型发光二极管阵列布置在一个或以上微型发光二极管子面板上,所述一个或以上微型发光二极管子面板可相对于彼此旋转,其中为所述一层或以上打印层中每一层产生所述光,所述处理设备被配置为:

在所述微型发光二极管阵列中动态确定一个或以上微型发光二极管区域,所述一个或以上微型发光二极管区域中每个区域包括一个或以上可单独寻址的微型发光二极管发射器,

为所述一个或以上微型发光二极管区域中每个区域确定一个或以上区域打印参数;以及

基于所述一个或以上区域打印参数,为所述一个或以上微型发光二极管区域中每个区域的所述一个或以上可单独寻址的微型发光二极管发射器确定一个或以上控制信号;以及

打印组件,被配置为打印所述一层或以上打印层。

2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述微型发光二极管阵列的像素点间距小于50微米。

3.根据权利要求1或2所述的系统,其特征在于,所述一个或以上微型发光二极管区域中每个区域对应于一个或以上微型发光二极管子面板。

4.根据权利要求1-3中任意一个所述的系统,其特征在于,所述一个或以上可单独寻址的微型发光二极管发射器中的至少一个的位置是可调节的。

5.根据权利要求1-4中任意一个所述的系统,其特征在于,为不同的打印层确定的所述一个或以上所述微型发光二极管区域是相同的。

6.根据权利要求1-4中任意一个所述的系统,其特征在于,在所述微型发光二极管阵列中动态确定一个或以上微型发光二极管区域,所述处理设备被配置为:

为第一打印层确定第一微型发光二极管区域;以及

为第二打印层确定第二微型发光二极管区域,其中所述第一微型发光二极管区域不同于所述第二微型发光二极管区域。

7.根据权利要求1-6中任意一个所述的系统,其特征在于,不同的打印层具有不同数量的微型发光二极管区域。

8.根据权利要求1-7中任意一个所述的系统,其特征在于,为第三打印层和第四打印层两者确定第三微型发光二极管区域,其中:

所述第三微型发光二极管区域为所述第三打印层产生具有第一波长的第一种光;

所述第三微型发光二极管区域为所述第四打印层产生具有第二波长的第二种光;以及

所述第一波长不同于所述第二波长。

9.根据权利要求1-8中任意一个所述的系统,其特征在于,为第五打印层确定第四微型发光二极管区域,为第六打印层确定第五微型发光二极管区域,其中:

所述第四微型发光二极管区域为所述第五打印层输出第一打印分辨率;

所述第五微型发光二极管区域为所述第六打印层输出第二打印分辨率;以及

所述第一打印分辨率不同于所述第二打印分辨率。

10.根据权利要求1-9中任意一个所述的系统,其特征在于,为第七打印层确定第六微型发光二极管区域,以及为第八打印层确定第七微型发光二极管区域,其中:

所述第六微型发光二极管区域为所述第七打印层输出第一强度的光;

所述第七微型发光二极管区域为所述第八打印层输出第二强度的光;以及

所述第一强度不同于所述第二强度。

11.根据权利要求1-10中任意一个所述的系统,其特征在于,所述一个或以上微型发光二极管区域包括不同的微型发光二极管区域,以及所述不同的微型发光二极管区域具有不同数量的微型发光二极管发射器。

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