[发明专利]一种在工业生产线中操作质量控制的装置、对应的方法和计算机程序产品

权利要求书

1.一种用于在工业生产线（10）上实行质量控制的装置（20），包括用于测量所述工业生产线（10）的产品样品（C）的性质的一个或多个装置（30，40，50；Hz），所述一个或多个装置（30，40，50；Hz）供应相应的一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3；YZ），所述装置（20）包括被配置用于处理所述一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3；YZ）并且获得所述产品样品（C）的性质（60）的处理模块（600），所述质量控制根据所述产品样品（C）的所述性质（60）来实行，用于测量产品样品（C）的性质的所述一个或多个装置（30，40，50，HZ）包括：

- x射线荧光（XRF）装置（30），包括x射线源（331），其在测量环境中朝向所述产品样品（C）发射第一x射线束（XB，XBC），以及粒子检测器（335），其被配置用于接收由所述产品样品（C）散射的第二x射线束（XBR），并且生成在所述相应的一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3，YZ）的集合内供应的第一接收信号（Y1），

所述装置（20）的特征在于，其进一步包括：

- 在属于光学频率范围的频带中操作、优选地在近红外的频带中操作的光学光谱学装置（40），包括朝向产品样品（C）发射第一光学辐射束的光学辐射源，以及用于接收由所述产品样品（C）散射的第二辐射束并生成在所述相应的一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3；YZ）的集合内供应的第二接收信号（Y2）的光学传感器。

2.根据权利要求1所述的装置（20），其特征在于，其被配置用于在所述相应的一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3；YZ）的集合内供应所述第二接收信号（Y2），所述相应的一个或多个测量信号（Y1，Y2，Y3；YZ）被处理以获得所述产品样品（C）的性质（60），并且根据所述性质（60）实行所述质量控制。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的装置（20），其特征在于，其被配置用于根据在所述光学光谱学装置（40）中生成的所述第二接收信号（Y2）的值来驱动所述x射线荧光装置（30）的操作，特别是用于使得所述x射线荧光装置（30）能够发射。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置（20），其特征在于，其被配置用于驱动所述x射线源（331）和所述光学辐射源，以同时分别朝向产品样品（C）发射x射线束（XB）和朝向相同的产品样品（C）发射光学辐射束。

5.根据权利要求1所述的装置（20），其特征在于，其包括人工视觉装置（50），所述人工视觉装置（50）包括图像采集和处理系统，所述图像采集和处理系统被配置用于获取和处理所述测量环境中的所述产品样品（C）的图像，并且生成第三接收信号（Y3），所述第三接收信号（Y3）可以被分析以用于对所述产品样品（C）进行分类和/或用于驱动所述x射线荧光装置（30）。

6.根据权利要求5所述的装置（20），其特征在于，其包括以下中的至少一个：

- 单色环境光源，其被配置用于照明所述测量环境，优选地为蓝色单色环境光源，以及

- 被配置用于驱动所述单色环境光源的模块。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，其包括由具有高原子序数的材料和/或放射性发光材料制成的靶（HZ），所述靶（HZ）超出样品（C）的远端表面定位，并且沿着第一x射线束（XB，XBC）和/或第二x射线束（XBR）的轨迹。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置（20），其特征在于，所述x射线荧光装置（30）包括：

XRF控制模块（300），其被配置用于驱动以下操作中的至少一个：

- 修改所述第一x射线束（XB）的轴线与探测器（35）的观察轴线之间的角度（α）,以便修改所述第一x射线束（XB，XBC）的焦点（F）的位置，特别是深度和/或水平位置，以及

- 使在射束（XB）的轴线与垂直于产品样品（C）的表面的轴线（P）之间计算的入射角变化；

以及用于以独立的方式相对于垂直轴线（P）将观察轴线位移到观察角的另外的子布置。