[发明专利]氟气制造装置及光散射检测器

权利要求书

1.一种氟气制造装置，对含有氟化氢及金属氟化物的电解液进行电解来制造氟气，具备：

电解槽，容纳所述电解液，进行所述电解；

平均粒径测定部，对在所述电解液的电解时在所述电解槽的内部产生的流体中包含的雾的平均粒径进行测定；

雾除去部，从所述流体除去所述雾；

氟气分选部，从所述流体分选并取出氟气；及

流路，从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体，

所述流路具有经由所述雾除去部从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体的第1流路和以不经由所述雾除去部的方式从所述电解槽的内部向所述氟气分选部输送所述流体的第2流路，并且具有根据由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径来切换流通所述流体的流路的流路切换部，

所述流路切换部，在由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径为预先设定的基准值以下的情况下，从所述电解槽的内部向所述第1流路输送所述流体，在由所述平均粒径测定部测定出的所述雾的平均粒径比所述预先设定的基准值大的情况下，从所述电解槽的内部向所述第2流路输送所述流体，

所述第2流路具有抑制由所述雾引起的所述第2流路的堵塞的堵塞抑制机构。

2.根据权利要求1所述的氟气制造装置，

所述平均粒径测定部对在所述电解槽的阳极产生的流体中包含的雾的平均粒径进行测定。

3.根据权利要求1或2所述的氟气制造装置，

所述堵塞抑制机构是管径比所述第1流路大的配管。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的氟气制造装置，

所述堵塞抑制机构是在相对于水平方向倾斜且从上游侧朝向下游侧下降的方向上延伸的配管。

5.根据权利要求1或2所述的氟气制造装置，

所述堵塞抑制机构是设置于所述第2流路的内部且将堆积于所述第2流路的内部的所述雾向上游侧或下游侧输送的旋转螺杆。

6.根据权利要求1或2所述的氟气制造装置，

所述堵塞抑制机构是使得用于使在所述第2流路内流动的所述流体的流速上升的气流流动的气流产生装置。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的氟气制造装置，

所述平均粒径测定部由光散射检测器构成，

该光散射检测器具备：

试料室，容纳所述流体；

光源，向所述试料室中的所述流体照射光散射测定用光；

散射光检测部，检测所述光散射测定用光因所述雾散射而产生的散射光；及

透明窗，设置于所述试料室并与所述流体接触，供所述光散射测定用光或所述散射光透射，

所述透明窗由选自金刚石、氟化钙、氟化钾、氟化银、氟化钡及溴化钾中的至少一种形成。

8.一种光散射检测器，在将含有氟化氢及金属氟化物的电解液在氟气制造装置的电解槽的内部进行电解来制造氟气时，对在所述电解槽的内部产生的流体中包含的雾的平均粒径进行测定，具备：

试料室，容纳所述流体；

光源，向所述试料室中的所述流体照射光散射测定用光；

散射光检测部，对所述光散射测定用光因所述雾散射而产生的散射光进行检测；及

透明窗，设置于所述试料室并与所述流体接触，供所述光散射测定用光或所述散射光透射，

所述透明窗由选自金刚石、氟化钙、氟化钾、氟化银、氟化钡及溴化钾中的至少一种形成。