[发明专利]带拒水拒油层的基材在审
申请号: | 202080040126.5 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN113891919A | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
发明(设计)人: | 富依勇佑;远田丰和;石关健二 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C09D171/02 | 分类号: | C09D171/02;C03C17/30 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带拒水拒 油层 基材 | ||
1.一种带拒水拒油层的基材,其特征在于,具有基材和配置于所述基材的主表面的拒水拒油层,所述拒水拒油层包含含氟化合物的缩合物,
通过下述方法算出的所述拒水拒油层的氟剩余量为2以上,
氟剩余量的算出方法:
根据使用理学公司制的荧光X射线分析装置ZSX100e在下述条件下测得的所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层中的氟原子强度F1、以及利用注册商标Kimwipes对所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层的表面擦拭100次后的所述带拒水拒油层的基材的所述拒水拒油层中的氟原子强度F2,通过下式(I)算出氟剩余量,所述Kimwipes利用AGC公司制的注册商标ASAHIKLIN AE-3000进行了湿润,
氟剩余量=(F1-F2)/F2×100 (I)
所述条件为:测定直径:30mm、测定射线:F-Kα、滤波器:OUT、狭缝:标准、分光晶体:理学公司制的RX35、检测器:PC、PHA:100-300、峰角度:20sec下为38.794deg.、B.G.角度:10sec下为43.000deg.。
2.根据权利要求1所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述氟剩余量为5以上。
3.根据权利要求1或2所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述氟剩余量为400以下。
4.根据权利要求1或2所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述氟剩余量为200以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物具有聚(氧氟亚烷基)链和反应性甲硅烷基。
6.根据权利要求5所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物具有2个以上反应性甲硅烷基。
7.根据权利要求6所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物在所述聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧具有所述反应性甲硅烷基。
8.根据权利要求7所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述反应性甲硅烷基位于所述聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧的所述化合物为式(3-2)所示的化合物,
[L3-n(R)nSi-]k2Y12-(OX)m-Y11[-Si(R)nL3-n]g2 (3-2)
其中,式(3-2)中,
X为具有1个以上氟原子的氟亚烷基,
m为2以上的整数,
Y11为(g2+1)价的连接基团,
Y12为(k2+1)价的连接基团,
R为1价的烃基,
L为水解性基团或羟基,
n为0~2的整数,
g2为1以上的整数,
k2为1以上的整数。
9.根据权利要求6所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物在所述聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有2个以上所述反应性甲硅烷基。
10.根据权利要求1~9中任一项所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物的数均分子量(Mn)为1000~20000。
11.根据权利要求5所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述含氟化合物的缩合物为混合物的缩合物,所述混合物包含在聚(氧氟亚烷基)链的两末端侧具有反应性甲硅烷基的化合物和仅在聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有反应性甲硅烷基的含氟化合物。
12.根据权利要求11所述的带拒水拒油层的基材,其中,所述仅在聚(氧氟亚烷基)链的单末端侧具有反应性甲硅烷基的含氟化合物为具有2个以上反应性甲硅烷基的含氟化合物。
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