[发明专利]在含氢氧化物的熔融盐中对玻璃和玻璃陶瓷材料进行蚀刻

权利要求书

1.一种蚀刻基材的方法，包括：

使具有厚度的基材与放置在容器中的蚀刻剂接触一段时间直到该厚度减小至少2μm，且以每分钟1μm至每分钟6.7μm的平均速率减小，该蚀刻剂具有170℃至300℃的温度并且包含两种或更多种碱金属氢氧化物的熔融混合物；和

停止使该基材与该蚀刻剂接触。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

在使该基材与该蚀刻剂接触之前，增加该基材的表面的纹理。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，还包括：

在停止使该基材与该蚀刻剂接触之后，对该基材进行回火。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，

增加该基材的表面的纹理包括对该表面进行喷砂处理。

5.根据权利要求3所述的方法，其中，

对该基材进行回火包括对该基材进行离子交换程序。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，

该蚀刻剂还包含碱金属硝酸盐和碱金属硫酸盐中的一者或多者。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，

碱金属硝酸盐是KNO₃和NaNO₃中的一者或多者。

8.根据权利要求6-7中任一项所述的方法，其中，

碱金属硫酸盐是K₂SO₄和Na₂SO₄中的一者或多者。

9.根据权利要求6所述的方法，其中，

该碱金属硝酸盐和该碱金属硫酸盐中的一者或多者占该蚀刻剂的大于0重量％至95重量％。

10.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，

该蚀刻剂包括NaOH和KOH的熔融混合物。

11.根据权利要求1-5中任一项所述的方法，其中，

该蚀刻剂包括24重量％至72重量％的NaOH和76重量％至28重量％的KOH的熔融混合物。

12.根据权利要求1-11中任一项所述的方法，其中，

该基材是碱性铝硅酸盐玻璃基材或碱性铝硅酸盐玻璃陶瓷基材。

13.根据权利要求1-12中任一项所述的方法，其中，

该时间范围是5分钟到2小时之间。

14.根据权利要求1-13中任一项所述的方法，其中，

该基材具有组成；和

该方法使得从表面到厚度中的1μm的深度的该组成中的Na⁺、K⁺、Li⁺中的任何一者或多者的重量百分比改变小于5％。

15.根据权利要求1-13中任一项所述的方法，其中，

该基材具有组成；和

该方法使得从表面到厚度中的1μm的深度的该组成中的Na⁺、K⁺、Li⁺中的任何一者或多者的重量百分比改变小于1％。

16.根据权利要求1-15所述的方法，其中，

该基材具有组成；和

该方法使得从表面到厚度中的1μm的深度的该组成中的Ca⁺⁺、Mg⁺⁺中的任何一者或多者的重量百分比改变小于5％。