[发明专利]光增强处理方法

说明书

本发明涉及一种处理皮肤和头皮的方法，所述方法包括：在所述头皮或皮肤上施用组合物，所述组合物包含选自以下的头皮护理活性物质：2‑吡啶酚‑N‑氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种AlogP值大于或等于0.4的铁螯合剂，以及其中的混合物；使所述头皮和皮肤暴露于具有约350nm至约500nm波长和约0.1毫瓦/cm²至约1000毫瓦/cm²功率的电磁辐射，并持续约2秒至约5分钟的时间段；其中如通过真菌生长敏感性测试所测量，抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50％。

技术领域

本发明涉及一种方法，所述方法使用组合物来处理头皮或皮肤，所述组合物包含有效量的抗微生物活性物质，诸如吡啶硫酮或羟甲辛吡酮乙醇胺的金属盐和螯合剂，并且将所述组合物施用于其上的头皮或皮肤的部分暴露于电磁辐射，所述电磁辐射对应于350nm至500nm波长的紫外可见光谱。更具体地讲，本发明的处理方法涉及处理皮肤或头皮上的微生物和真菌感染。甚至更具体地讲，本发明涉及用于处理头皮屑的方法，并且提供改善的去头皮屑活性。

背景技术

多种抗微生物组合物(包括去头皮屑组合物)和方法可商购获得或以其他方式在洗发剂领域中是已知的。这些方法使用通常包含分散和悬浮在整个组合物中的颗粒状结晶抗微生物剂或可溶于产品中的表面活性剂可溶性抗微生物剂的组合物。在将产品施用在皮肤或头皮上期间，抗微生物活性物质沉积在皮肤或头皮上。尽管有可用的选择，但是消费者仍然需要毛发和皮肤方法及产品，它们相对于目前市售的方法和产品提供优异的抗微生物功效，以及进一步的去头皮屑功效；因为此类消费者已经发现头皮屑仍然普遍，并且可能难以实现优异的功效。

本发明已惊奇地发现，在头皮或皮肤上施用包含抗微生物活性物质的组合物，所述抗微生物活性物质可包括抗真菌活性物质或去头皮屑活性物质，以及螯合剂，然后使皮肤或头皮暴露于对应于350nm至500nm波长的紫外可见光谱的电磁辐射，与通过不包括此类电磁辐射暴露的处理方法实现的功效相比，提供优异的功效。

发明内容

本发明涉及一种处理皮肤和头皮的方法，所述方法包括：在所述头皮或皮肤上施用组合物，所述组合物包含选自以下的头皮护理活性物质：2-吡啶酚-N-氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种AlogP值大于或等于0.4的铁螯合剂，以及其中的混合物；使所述头皮和皮肤暴露于具有约350nm至约500nm波长和约0.1毫瓦/cm²至约1000毫瓦/cm²功率的电磁辐射，并持续约2秒至约5分钟的时间段；其中如通过真菌生长敏感性测试所测量，抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50％。

具体实施方式

除非另外指明，否则本文中使用的所有百分比和比率均按总组合物的重量计。除非另外指明，所有测量均被理解为是在环境条件下进行，其中“环境条件”是指在约25℃下，在约一个大气压下，并且在约50％相对湿度下的条件。所有数值范围是包括端值在内的更窄的范围；所描述的范围上限和下限是可组合的，以形成没有明确描述的另外的范围。

本发明的组合物可包含本文所述的基本组分以及任选的成分，基本上由其组成或由其组成。如本文所用，“基本上由...组成”是指组合物或组分可包含附加成分，只要附加成分不在本质上改变受权利要求书保护的组合物或方法的基本特征和新颖特征。

如本文所用，“包括/包含”是指可加入不影响最终结果的其它步骤和其它成分。该术语涵盖术语“由……组成”和“基本上由……组成”。

如本文所用，“混合物”旨在包括物质的简单组合以及由它们的组合所可能产生的任何化合物。

如本文所用，除非另外指明，否则“分子量”是指重均分子量。分子量使用工业标准方法、凝胶渗透色谱法(“GPC”)测量。

在给定含量范围的情况下，这些应当被理解为组合物中所述成分的总量，或在多于一种物质落入成分定义的范围内的情况下，组合物中所有成分的总量符合所述定义。