[发明专利]紫外线吸收剂、紫外线吸收组合物、紫外线吸收膜、层叠体及新型化合物在审

专利信息
申请号: 202080042155.5 申请日: 2020-06-01
公开(公告)号: CN113993856A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 加藤隆志 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C07D339/06 分类号: C07D339/06;C07D409/04;C09D129/04;C09D5/32;C09D7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 薛海蛟
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 紫外线吸收剂 紫外线 吸收 组合 层叠 新型 化合物
【权利要求书】:

1.一种紫外线吸收剂,其由下述通式(1)表示,

通式(1)中,R11表示1价取代基,n为1或2,n为2时,存在的2个R11彼此相同或不同,

W1及W2分别独立地表示氢原子、氰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、硝基、酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基、芳基或杂环基,W1及W2中的至少一个表示哈米特取代基常数σp值为0.2以上的取代基,W1及W2任选地相互键合而形成环,

R11、W1及W2中的至少一个基团具有选自由磺酸基、羧酸基及磷酸基组成的组中的酸基。

2.根据权利要求1所述的紫外线吸收剂,其由下述通式(2)表示,

通式(2)中,R1及R2分别独立地表示1价取代基,

W1及W2分别独立地表示氢原子、氰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、硝基、酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基、芳基或杂环基,W1及W2中的至少一个表示哈米特取代基常数σp值为0.2以上的取代基,W1及W2任选地相互键合而形成环,

R1、R2、W1及W2中的至少一个基团具有选自由磺酸基、羧酸基及磷酸基组成的组中的酸基。

3.根据权利要求1所述的紫外线吸收剂,其由下述通式(3)表示,

通式(3)中,R1及R2分别独立地表示1价取代基,

R3表示烷基、芳基或杂环基,

R1、R2及R3中的至少一个基团具有选自由磺酸基、羧酸基及磷酸基组成的组中的酸基。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的紫外线吸收剂,其中,

酸基为磺酸基。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的紫外线吸收剂,其在25℃水中的溶解度为1质量%以上。

6.一种紫外线吸收组合物,其含有权利要求1至5中任一项所述的紫外线吸收剂和水性介质。

7.根据权利要求6所述的紫外线吸收组合物,其进一步包含水溶性聚合物。

8.一种紫外线吸收膜,其为权利要求6或7所述的紫外线吸收组合物的固化物。

9.一种层叠体,其具有基材和形成于基材上的权利要求8所述的紫外线吸收膜。

10.一种化合物,其由下述通式(4)表示,

通式(4)中,L1及L2分别独立地表示亚烷基,

X分别独立地表示氢原子或-SO3-的抗衡阳离子,

W1及W2分别独立地表示氢原子、氰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、硝基、酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷基、芳基或杂环基,W1及W2中的至少一个表示哈米特取代基常数σp值为0.2以上的取代基,W1及W2任选地相互键合而形成环。

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