[发明专利]研磨设备

说明书

一种研磨设备，包括：第一磨机(10)，布置为研磨具有较大粒度的产品，该第一磨机设置有入口(11)和出口(12)；第二磨机(20)，布置为将产品研磨成更小的粒度，该第二磨机设置有入口(21)和出口(22)；其中，将在第一磨机(10)的出口中的产品供应至第二磨机(20)。该研磨设备还包括介于两个磨机(10，20)之间的筛机(30)。

本发明涉及一种研磨设备，具体地但不排他地用于研磨陶瓷原料。

如已知的，用于生产瓷砖的粉末通过研磨颗粒状态的原料的研磨过程而获得。在该过程期间，原料的颗粒尺寸逐渐减小，直到获得预定的粒度。

研磨过程包括使用两个或更多个磨机，这些磨机连续地研磨原料，从而逐渐减小其粒度。

每个磨机包括旋转的中空主体，该中空主体限定在其中布置有研磨主体的体积，这些研磨主体浸在液体(通常为水)中。研磨主体具有随着磨机围绕旋转轴线旋转以及在旋转期间研磨引入体积本身中的材料的功能。

表现最好的磨机在连续循环中执行它们的研磨作用。实质上，待研磨材料的引入以及研磨材料的提取是与该磨机的旋转轴线同心地实施的，使得该中空主体可以保持连续旋转。

在磨机的操作过程中，这些研磨主体通过该中空主体的旋转而被循环地向上拖动并且一旦它们达到最大高度的位置就下落，从而逐渐地研磨在彼此撞击的研磨主体之间被压碎的产品。

在每个磨机的出口处获得的粒度基本上取决于研磨主体的尺寸。研磨主体的尺寸越小，磨机出口的产品的粒度越小。

构成研磨设备的磨机以粒度递减的顺序依次定位。实质上，待研磨的产品按从设置有最大尺寸的研磨主体的磨机到设置有最小尺寸的研磨主体的磨机的顺序被供应到不同的磨机中。

在每个磨机的出口中的产品，特别是在初始磨机(即，设置有较大尺寸的研磨主体的磨机)的出口中的产品通常不具有均匀的粒度。特别地，磨机出口中的产品的一百分比具有比理论上预期的更大的粒度。这是由于研磨主体的形状引起的，当研磨主体彼此接触时，在任何情况下都存在一些其中产品未被研磨的空的空间。

产品的一部分具有比从特定磨机的出口预期的更大的粒度，这代表连续研磨步骤的缺点，即，通过连续磨机实施的研磨。事实上，连续磨机相对于前面的磨机设置有更小的研磨主体。较大尺寸的颗粒显著地减慢了研磨过程，因为它们需要更长的时间来减小粒度。此外，这些研磨主体，在比预期尺寸更大的尺寸的颗粒上工作，因而由于比正常情况更快地磨损而被劣化。

本发明的目的是提供一种研磨设备，该研磨设备使得能够消除当前可用的装置的缺点。

根据本发明的设备的优点是能够显著减少研磨过程的总时间。

本发明的设备的另一优点是该设备显著减少了对该设备的第一个磨机之后的磨机的研磨主体的磨损。

本发明的进一步的特征和优点将在以下通过非限制性实例的方式在附图中展示的本发明的实施例的详细说明中变得更加清楚，在附图中：

-图1示意性地示出了根据本发明的设备的第一实施例；

-图2示意性地示出了根据本发明的设备的第二实施例。

在一个较简单的实施例中，本发明的研磨设备包括彼此串联连接的两个磨机(10，20)。将来自第一磨机(10)的研磨产品供应到第二磨机(20)中。

第一磨机(10)布置为将产品研磨成具有较大粒度。换言之，在两个磨机中，第一磨机(10)设置有比第二磨机(20)中的研磨主体更大的尺寸的研磨主体。第一磨机(10)设置有用于待研磨产品的入口(11)和用于研磨产品的出口(12)。优选地，尽管不是必须的，第一磨机(10)是具有与磨机自身的旋转轴线同轴的入口(11)和出口(12)的连续磨机。第一磨机(10)也可以是非连续类型的。