[发明专利]溅镀靶材在审
| 申请号： | 202080049429.3 | 申请日： | 2020-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN114127328A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 丸子智弘;鈴木雄;大友将平;中村紘暢 | 申请（专利权）人： | 株式会社古屋金属 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/16;B22F5/00;B22F5/12 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 溅镀靶材 | ||
1.一种溅镀靶材，其特征在于：
包含铝且还包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种，且
氯的含量为100ppm以下。
2.根据权利要求1所述的溅镀靶材，其特征在于：氟的含量为100ppm以下。
3.根据权利要求1或2所述的溅镀靶材，其特征在于：氧的含量为500ppm以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的溅镀靶材，其特征在于：在所述溅镀靶材中存在包含选自铝、稀土类元素及钛族元素中的至少2种元素的金属间化合物。
5.根据权利要求4所述的溅镀靶材，其特征在于：在所述溅镀靶材中存在1种、2种、3种或4种所述金属间化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的溅镀靶材，其特征在于：在所述溅镀靶材中存在1种以上的选自铝、稀土类元素及钛族元素中的至少1种元素的氮化物。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的溅镀靶材，其特征在于：所述稀土类元素是钪及钇中至少任一种。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的溅镀靶材，其特征在于：所述钛族元素是钛、锆及铪中至少任一种。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的溅镀靶材，其特征在于具有：在铝母相中存在以下材料中至少任一种的组织，即，包含铝及稀土类元素的材料、包含铝及钛族元素的材料、以及包含铝、稀土类元素及钛族元素的材料；或者
由复合相构成的组织，该复合相是在铝母相中至少包含以下相中任一种或两种，即，仅包含稀土类元素及不可避免的杂质作为金属种的相、以及仅包含钛族元素及不可避免的杂质作为金属种的相。
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