[发明专利]清洁和抛光流体及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202080049885.8 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN114080448A 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 白峰;萨拉·L·哈根;马修·P·瓜伊 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: C11D1/825 分类号: C11D1/825;C11D3/08;C11D3/20;C11D3/37;C11D3/60;C09G1/04
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 孙微
地址: 美国明*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 清洁 抛光 流体 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种清洁和抛光流体,包含:

水;

聚合物;以及

硅酸盐;

其中所述水大于所述流体的98重量%。

2.根据权利要求1所述的清洁和抛光流体,还包含硅醇盐。

3.根据权利要求1所述的清洁和抛光流体,其中所述聚合物为丙烯酸乳液聚合物。

4.根据权利要求1所述的清洁和抛光流体,还包含表面活性剂。

5.根据权利要求1所述的溶液,其中所述流体的pH大于9。

6.一种清洁硬质地板表面并增加所述硬质地板表面的光泽度的方法,该方法包括:

将包含大于98重量%的水、聚合物和硅酸盐的水性溶液分配到所述硬质地板表面上;

在所述水性溶液的存在下,使所述硬质地板表面与移动研磨垫接触;以及

干燥所述硬质地板表面。

7.根据权利要求6所述的方法,其中所述分配与所述干燥之间的时间小于10秒。

8.根据权利要求6所述的方法,其中所述干燥步骤包括从所述硬质地板表面抽吸液体。

9.根据权利要求6所述的方法,其中所述研磨垫包含粗磨料但不包含细磨料,其中细磨料包含介于0.1微米和30微米之间的颗粒。

10.根据权利要求6所述的方法,其中所述研磨垫包含细磨料,其中细磨料包含介于0.1微米和30微米之间的颗粒。

11.根据权利要求6所述的方法,其中所述硬质地板表面为涂覆的石材地板。

12.根据权利要求6所述的方法,其中所述硬质地板表面为涂覆的乙烯基地板。

13.根据权利要求6所述的方法,其中所述硬质地板表面为涂覆的乙烯基组合物瓷砖地板。

14.根据权利要求6所述的方法,其中所述硬质地板表面为实心乙烯基瓷砖地板。

15.根据权利要求6所述的方法,还包括经由多次通过来重复所述分配、接触和干燥的步骤。

16.一种清洁硬质地板表面并增加所述硬质地板表面的光泽度的方法,该方法包括:

在包含大于98重量%的水、聚合物和硅酸盐的水性溶液的存在下,使硬质地板表面与研磨垫接触。

17.一种制备地板清洁和抛光流体的方法,该方法包括:

提供包含水、聚合物和硅酸盐的浓缩物;

在水中稀释所述浓缩物,使得所述水大于所述流体的98重量%。

18.一种维护硬质地板表面的方法,该方法包括:

第一次同时清洁和抛光所述硬质地板表面以将初始第一光泽度增加至得到的第一光泽度;以及

在一定间隔后,第二次同时清洁和抛光所述硬质地板以将初始第二光泽度增加至得到的第二光泽度;

其中所述第一次和第二次同时清洁和抛光所述硬质地板表面的步骤包括将包含大于98重量%的水、聚合物和硅酸盐的水性溶液分配到所述硬质地板表面上,在所述水性溶液的存在下使所述硬质地板表面与旋转研磨垫接触,干燥所述硬质地板表面,并且任选地经由多次通过来重复所述分配、接触和干燥的步骤;并且

其中在所述第一时间,在所述第二时间,以及在所述间隔期间,不对所述硬质地板表面进行打磨。

19.根据权利要求18所述的方法,其中所述间隔为至少24小时。

20.根据权利要求18所述的方法,其中在不存在有效量水的情况下,打磨装置与以750rpm或更高转速旋转的垫接触。

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