[发明专利]窄发射染料、包含其的组合物以及制备和使用其的方法在审
申请号: | 202080052207.7 | 申请日: | 2020-05-19 |
公开(公告)号: | CN114222803A | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | C·J·麦克内文;J·B·皮特纳;C-Y·陈 | 申请(专利权)人: | 尼尔瓦纳科学股份有限公司 |
主分类号: | C09K19/54 | 分类号: | C09K19/54;G02F1/1335;H05B33/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张晓威 |
地址: | 美国北*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发射 染料 包含 组合 以及 制备 使用 方法 | ||
1.式(I)的化合物:
其中:
M是金属或是两个氢(-H、-H);
R5、R10和R15独立地选自H、烷氧基和具有下式的连接基团:
-L1-(X1-L2)p-G;
其中p为0或1;L1是亚烃基;X1是-C(=O)NH-或-NHC(=O)-;L2是其中q为1至24的整数的-(CH2CH2O)q-亚烷基、亚烷基或取代的亚烷基,任选地,其中取代的亚烷基为被一个或多个包含聚氧乙烯链和/或酰胺基团的基团取代的亚烷基;并且G是可生物缀合基团;并且
R2、R3、R12和R13独立地选自H、氰基、卤素、全卤代烷基、磺酸酯、磺酰胺、酯、羧酸、甲酰基、乙酰基、具有式-L1-(X1-L2)p-G的连接基团和增溶基团,其中所述增溶基团选自-芳基-(Rs)w和-炔基-芳基-(Rs)w,其中w为0至5的整数,包括端值,并且Rs是具有下式的基团:
-X2-(L3)z-R17,
其中:z为0或1;X2是-CH2NHC(=O)-、-C(=O)NH-亚烷基-NH-或三唑基;L3是-C(=O)-亚烷基-C(=O)-NH-,并且R17选自-(C2H4O)m-R18、-C(=O)C2H4-(OC2H4)mOR18和-(C2H4O)n-C2H4-C(=O)NH-C(R19)3,其中m为4或更大的整数,任选地其中m为8或更大的整数;n为1至5的整数;R18是低级烷基,任选地是甲基;并且R19是-CH2O-C2H4-C(=O)NH-(C2H4O)mR18;
条件是:R2、R3、R12和R13中的至少一个是-芳基-(Rs)w或-炔基-芳基-(Rs)w。
2.权利要求1的化合物,其中R5、R10和R15选自H、甲氧基和具有下式的连接基团:-L1-(X1-L2)p-G。
3.权利要求1或权利要求2的化合物,其中R10为具有下式的连接基团:-L1-(X1-L2)p-G。
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