[发明专利]降低磁共振成像系统的超导磁体的热辐射屏蔽罩振动趋势的方法

权利要求书

1.一种用于降低热辐射屏蔽罩发生振动的趋势的方法，所述热辐射屏蔽罩用于磁共振成像系统的超导磁体，所述方法包括局部地修改所述热辐射屏蔽罩的材料的单位面积质量的步骤，所述步骤通过向单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩局部地添加质量来完成，所述局部地添加质量通过借助于施用焊池而添加额外材料来完成。

2.一种用于降低热辐射屏蔽罩发生振动的趋势的方法，所述热辐射屏蔽罩用于磁共振成像系统的超导磁体，所述方法包括局部地修改所述热辐射屏蔽罩的材料的单位面积质量的步骤，其中，所述修改单位面积质量的步骤通过从单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩局部地去除质量来执行，所述局部地去除质量通过从单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩局部地且部分地去除材料厚度来完成。

3.一种用于磁共振成像系统的超导磁体的热辐射屏蔽罩，其中，通过向单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩局部地添加质量来局部地修改所述热辐射屏蔽罩的材料的单位面积质量，所述向单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩局部地添加质量通过借助于施用焊池而添加额外材料来完成。

4.一种用于磁共振成像系统的超导磁体的热辐射屏蔽罩，其中，通过从单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩中局部地去除质量来局部地修改所述热辐射屏蔽罩的材料的单位面积质量，由此所述热辐射屏蔽罩包括从单位面积质量基本上均匀的热辐射屏蔽罩中部分地去除材料厚度的区域。