[发明专利]化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法、以及含碘乙烯基聚合物及其乙酰化衍生物的制造方法

权利要求书

1.一种化合物，其具有不饱和双键和一个以上的卤素。

2.根据权利要求1所述的化合物，其具有一个以上的亲水性基团或一个分解性基团。

3.根据权利要求1或2所述的化合物，其由下述式(1)表示，

式(1)中，

X各自独立地为I、F、Cl、Br、或具有1个以上且5个以下的选自由I、F、Cl及Br组成的组中的取代基的碳数1～30的有机基团，

L¹各自独立地为单键、醚基、酯基、硫醚基、氨基、硫酯基、缩醛基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基、或磷酸基，所述L¹的醚基、酯基、硫醚基、氨基、硫酯基、缩醛基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基、或磷酸基任选具有取代基，

Y各自独立地为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、巯基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基、或磷酸基，所述Y的烷氧基、酯基、碳酸酯基、氨基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基、及磷酸基任选具有取代基，

R^a、R^b、及R^c各自独立地为H、I、F、Cl、Br、或任选具有取代基的碳数1～60的有机基团，

A为碳数1～30的有机基团，

Z各自独立地为烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、或碳酸酯基，所述Z的烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、或碳酸酯基任选具有取代基，

p为1以上的整数，m为1以上的整数，n为0以上的整数，r为0以上的整数。

4.根据权利要求3所述的化合物，其由下述式(1a)表示，

式(1a)中，

X、L¹、Y、A、Z、p、m、n、及r与式(1)中的定义相同。

5.根据权利要求3所述的化合物，其由下述式(1b)表示，

式(1b)中，

X、L¹、Y、A、Z、p、m、n、及r与式(1)中的定义相同，

R^a1、R^b1、及R^c1各自独立地为H、I、F、Cl、Br、或任选具有取代基的碳数1～60的有机基团，

R^a1、R^b1、及R^c1中的至少任1者为I、F、Cl、Br、或任选具有取代基的碳数1～60的有机基团。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的化合物，其中，n+r为1以上的整数。

7.根据权利要求3～6中任一项所述的化合物，其中，Y各自独立地为下述式(Y-1)所示的基团，

-L²R² (Y-1)

式(Y-1)中，

L²为通过酸或碱的作用而断裂的基团，

R²为碳数1～30的直链、支链或环状的脂肪族基团；碳数1～30的芳香族基团；碳数1～30的直链、支链或环状的包含杂原子的脂肪族基团；碳数1～30的包含杂原子的芳香族基团，所述R²的脂肪族基团、芳香族基团、包含杂原子的脂肪族基团、包含杂原子的芳香族基团任选还具有取代基。

8.根据权利要求3～7中任一项所述的化合物，其中，A为芳香环。

9.根据权利要求3～7中任一项所述的化合物，其中，A为脂环结构。

10.根据权利要求3～9中任一项所述的化合物，其中，A为杂环结构。

11.根据权利要求3～10中任一项所述的化合物，其中，n为2以上。