[发明专利]用于分子污染物及颗粒缓解的真空致动器容器

权利要求书

1.一种用于半导体检验的系统，其包括：

真空室；

光学安装座，其安置于所述真空室中；

光学组件，其安置于所述真空室中的所述光学安装座上；

基底；

波纹管，其安置于所述基底与所述光学安装座之间，其中所述波纹管、所述基底及所述光学安装座之间界定致动器隔室，其中所述波纹管提供所述基底与所述光学安装座之间的密封；

致动器，其安置于所述致动器隔室中，其中所述致动器经配置以使所述光学安装座相对于所述基底移动；及

过滤器组合件，其安置成流体连通于所述致动器隔室与所述真空室的内部之间，其中所述过滤器组合件包含第一颗粒过滤器、第二颗粒过滤器及安置于所述第一颗粒过滤器与所述第二颗粒过滤器之间的净化剂介质。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述过滤器组合件安置于所述基底中。

3.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括安置于所述基底上的气体路径，其中所述气体路径流体连通于所述致动器隔室与所述真空室之间，且其中所述过滤器组合件安置于所述气体路径中。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述波纹管由不锈钢制作。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一颗粒过滤器及所述第二颗粒过滤器中的至少一者是金属网。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一颗粒过滤器及所述第二颗粒过滤器中的至少一者是烧结金属。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述净化剂介质包含活性碳、沸石、硅胶或聚合物中的至少一者。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一颗粒过滤器及所述第二颗粒过滤器是金属网，且其中所述净化剂介质包含活性碳。

9.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括在与所述致动器隔室对置的所述波纹管的侧上安置于所述光学安装座上的多个挡板，其中所述挡板朝向所述基底延伸。

10.根据权利要求1所述的系统，其中所述过滤器组合件捕获具有3nm或更大的直径的颗粒的90％以上。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述光学组件经配置用于极紫外波长。

12.一种极紫外半导体检验工具，其包含根据权利要求1所述的系统。

13.一种用于半导体检验的方法，其包括：

在真空室中的光学安装座上提供光学组件；

提供安置于所述光学安装座与基底之间的致动器，其中波纹管安置于所述基底与所述光学安装座之间，其中所述波纹管、所述基底及所述光学安装座之间界定致动器隔室，且其中所述波纹管提供所述基底与所述光学安装座之间的密封；

使用真空泵减小所述真空室中的压力；及

使用所述真空泵减小所述致动器隔室中的压力，其中从所述致动器隔室抽空的气体通过所述致动器隔室与所述真空室之间的过滤器组合件，且其中所述过滤器组合件包含第一过滤器、净化剂介质及第二过滤器。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述过滤器组合件安置于所述基底中。

15.根据权利要求13所述的方法，其中所述过滤器组合件安置于在所述基底上安置的气体路径中。

16.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一过滤器及/或所述第二过滤器是由金属制成的网，且其中所述净化剂介质包含活性碳、沸石、硅胶或聚合物中的至少一者。

17.根据权利要求13所述的方法，其进一步包括使用所述致动器使所述光学安装座相对于所述基底移动。