[发明专利]用于在掠入射光学单元上施加碳基反射性外涂层的方法在审

专利信息
申请号: 202080057263.X 申请日: 2020-08-13
公开(公告)号: CN114616634A 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: 乔瓦尼·帕雷斯基;玛尔塔·玛丽亚·西维塔尼;乔治亚·西罗尼;朱塞佩·瓦尔塞基;卢卡·麦格尼;尤金尼奥·吉贝蒂尼 申请(专利权)人: 意大利国家天文物理研究所;米兰理工大学;米提亚拉里奥(股份)责任有限公司
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06;G02B5/08
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;洪欣
地址: 意大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 入射 光学 单元 施加 反射 涂层 方法
【权利要求书】:

1.用于在掠入射光学单元(1;10)上施加碳基反射性外涂层的方法,所述光学单元(1;10)包括基底(2)和第一材料的涂层(3),所述方法包括用含有至少一种有机前体材料的溶液(4)或气相处理所述光学单元(1;10),以引起在所述涂层(3)上吸收所述前体材料的步骤。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述至少一种前体材料包含烷基链以及官能团-CH3、-OH、-COOH、-NH2、-HC=CH2、-CH=CHCOO-、-CH2OCH2、-SH和-CH=O中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述前体材料是选自烷基硫醇、烷基二硫化物和烷基硫化物的材料。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述前体材料包含氧。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述前体材料包含硅。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述至少一种前体材料是有机硅烷。

7.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法包括,在用所述溶液或所述气相处理的步骤之后,将所述光学单元(1;10)暴露于适于从所述前体材料中除去氧的辐射源(6)的步骤。

8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其特征在于,所述第一材料是选自金、铂、铱、钯、铑、钌、铬和镍的高密度材料。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述光学单元(1)包括镍的单片外壳(2),并且所述第一材料是金。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述外涂层(5,7)的材料是含硫的有机化合物。

11.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述光学单元是由至少一个硅晶片堆叠构成的SPO光学器件的模块(10),并且所述第一材料由铱构成。

12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述外涂层的材料是含硅的有机化合物。

13.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述第一材料为低密度材料。

14.根据权利要求13所述的方法,其特征在于,所述第一材料选自碳和B4C。

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