[发明专利]X射线单元技术模块和自动化应用训练

权利要求书

1.一种扫描仪，包括：

电磁波源；以及

检测器，其定位成测量来自所述电磁波源的发射，其中，所述电磁波源包括第一技术，并且所述电磁波源能够与包括第二技术的第二电磁波源互换。

2.根据权利要求1所述的扫描仪，其中，所述第一技术和所述第二技术包括来自所述电磁谱的不同波长。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的扫描仪，包括置于所述电磁波源和所述检测器之间的传送带。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的扫描仪，其中，所述检测器包括第一技术，并且所述检测器能够与包括第二技术的第二检测器互换。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的扫描仪，其中，所述电磁波源是X射线源。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的扫描仪，其中，所述检测器包括光电二极管阵列和其他技术。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的扫描仪，其被配置为与存储介质通信，所述存储介质上存储有指令以执行用于训练所述扫描仪进行检查应用的方法，所述方法包括：

利用控制系统，操作所述电磁波源以多个参数组合产生电磁波发射；

利用所述控制系统，移动传送带以使具有不同尺寸的多种污染物的产品暴露于以一种以上的参数组合所产生的发射；

利用所述控制系统，记录以一种以上的参数组合通过所述产品的衰减的发射；以及

利用所述控制系统，选择在检查所述污染物时使用的参数组合。

8.根据权利要求7所述的扫描仪，其中，所述存储介质是远程存储介质。

9.一种有形计算机可读介质，其上存储有指令以执行用于训练扫描仪进行检查应用的方法，所述方法包括：

利用控制系统，操作电磁波源以多个参数组合产生电磁波发射；

利用所述控制系统，移动传送带以使具有不同尺寸的多种污染物的产品暴露于以一种以上的参数组合所产生的发射；

利用所述控制系统，记录以一种以上的参数组合通过所述产品的衰减的发射；以及

利用所述控制系统，选择在检查所述污染物时使用的参数组合。

10.一种用于训练扫描仪执行检查应用的方法，所述方法包括：

操作电磁波源以多个参数组合产生电磁波发射；

移动传送带以使具有不同尺寸的多种污染物的产品暴露于以一种以上的参数组合所产生的发射；

记录以一种以上的参数组合通过所述产品的衰减的发射；以及

选择在检查所述污染物时使用的参数组合。

11.根据权利要求10所述的方法，还包括将包含不同尺寸污染物的测试卡放置在所述产品下方。

12.根据权利要求10或权利要求11所述的方法，还包括在所述一种以上的参数组合中的每一种之后将所述产品暴露于所述发射之后反转所述传送带的方向。

13.根据权利要求10至12中任一项所述的方法，其中，所述电磁波源是X射线源。

14.根据权利要求9所述的方法，其中，控制系统设置所述参数组合。

15.一种扫描仪，包括：

电磁波源；以及

检测器，其定位成测量来自所述电磁波源的发射，其中，所述检测器包括第一技术，并且所述检测器能够与包括第二技术的第二检测器互换。

16.根据权利要求15所述的扫描仪，其中，检测器技术选自由光电二极管阵列、CCD和CMOS构成的组。