[发明专利]表面处理组合物及方法

权利要求书

1.一种处理基板的方法，包括：

a)向具有设置于其表面上的图案的基板供应升华材料，其中所述升华材料含有升华化合物和表面改性剂；

b)使所述升华材料在所述表面上保持足以改性所述表面的时间；

c)使所述表面上的所述升华材料固化；以及

d)通过升华移除设置于所述表面上的所述升华材料。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物具有约-20℃至约60℃的熔点以及在25℃至少约1mm Hg的蒸汽压。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物具有约0℃至约20℃的熔点。

4.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物在25℃具有至多约65mN/m的表面张力。

5.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物在25℃具有至多约5厘沲的黏度。

6.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物是选自由以下所组成的组：叔丁醇、冰醋酸、八甲基环四硅氧烷、五氟苯酚、2-乙酰基-5-甲基呋喃、对氯甲苯、丙烯酸、嘧啶、4-甲基噻唑、对二甲苯、二溴化乙烯、三聚乙醛、乙二胺、1,4-二恶烷、甲酸、六氟苯、苯、环己烷、4-吡啶酚、莰烯、2,2-二甲基-1-丙醇、氨腈、碳酸二甲酯、三甲基硅醇、二甲亚砜、环己醇以及三甲基乙腈。

7.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华化合物的量是以所述升华材料重量计约40％至以重量计约99.5％。

8.如权利要求1所述的方法，其中，所述表面改性剂包含含Si化合物。

9.如权利要求8所述的方法，其中，所述含Si化合物是二硅氮烷。

10.如权利要求9所述的方法，其中，所述二硅氮烷是六甲基二硅氮烷、七甲基二硅氮烷、N-甲基六甲基二硅氮烷、1,3-二苯基四甲基二硅氮烷、或者1,1,3,3-四苯基-1,3-二甲基二硅氮烷。

11.如权利要求8所述的方法，其中，所述含Si化合物包含三甲基硅基基团。

12.如权利要求11所述的方法，其中，所述含Si化合物是三甲基硅基三氟甲磺酸酯、N-(三甲基硅基)二甲胺、N-(三甲基硅基)二乙胺、4-三甲基硅基氧基-3-戊烯-2-酮、双(三甲基硅基)硫酸酯、甲氧基三甲基硅烷、乙氧基三甲基硅烷、N-烯丙基-N,N-双(三甲基硅基)胺、N-(三甲基硅基)二乙胺、N,N-双-三甲基硅基脲、三甲基硅醇、N-(三甲基硅基)乙酰胺、或者三(三甲基硅基)磷酸酯。

13.如权利要求8所述的方法，其中，所述含Si化合物是氨基硅烷。

14.如权利要求13所述的方法，其中，所述氨基硅烷是三异丙基(二甲基氨基)硅烷。

15.如权利要求8所述的方法，其中，所述含Si化合物是硅氧烷。

16.如权利要求15所述的方法，其中，所述硅氧烷是八甲基环四硅氧烷或者1,3-双(十七氟-1,1,2,2-四氢癸基)四甲基二硅氧烷。

17.如权利要求1所述的方法，其中，所述表面改性剂的量是以所述升华材料的重量计约0.5％至以重量计约10％。

18.如权利要求1所述的方法，其中，所述升华材料进一步包含催化剂。

19.如权利要求18所述的方法，其中，所述催化剂是三氟甲磺酸、三氟甲磺酸酐、甲磺酸、乙酸、或者乙酸酐。