[发明专利]用于改善图像中的结构的基于过程的轮廓信息的方法在审
申请号: | 202080058841.1 | 申请日: | 2020-08-01 |
公开(公告)号: | CN114286964A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 郑羽南;范永发;冯牧;郑雷武;王祯祥;罗亚;张辰骥;陈骏;侯振宇;王进泽;陈峰;马紫阳;郭欣;程进 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 改善 图像 中的 结构 基于 过程 轮廓 信息 方法 | ||
1.一种量测方法,包括:
获得(i)与印制于衬底上的结构的物理特性相关联的测量数据,和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少一部分,所述模拟轮廓的所述部分与所述测量数据相关联;
基于所述测量数据修改所述结构的所述模拟轮廓的所述部分;和
在所述模拟轮廓的经修改的所述部分上或附近产生量测量规,所述量测量规被放置以测量所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述模拟轮廓的所述部分是所述模拟轮廓的、在与所述结构相关联的所述测量数据周围的限定区内的部分。
3.根据权利要求2所述的方法,其中获得所述模拟轮廓的所述部分包括:
将所述衬底的一区域限定在与所述测量数据相关联的限定部位周围;和
在所述衬底的限定的所述区域内模拟图案化过程以获得所述结构的所述模拟轮廓的所述部分。
4.根据权利要求1所述的方法,其中修改所述模拟轮廓的所述部分包括:
基于所述模拟轮廓的所述部分确定与所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性相关联的模拟数据;
确定与所述结构的所述物理特性相关联的所述测量数据与所述模拟数据之间的差;和
基于所述差修改所述模拟轮廓的所述部分使得所述测量数据与所述模拟数据之间的所述差减小。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述测量数据是与所述结构相关联的限定部位处的CD值。
6.根据权利要求5所述的方法,其中对所述模拟轮廓的所述部分的修改是基于与所述结构相关联的模拟CD值与测量CD值之间的差进行的。
7.根据权利要求1所述的方法,其中修改所述模拟轮廓的所述部分包括:
基于所述模拟轮廓的所述部分确定与所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性相关联的模拟数据;
确定与所述结构的所述物理特性相关联的所述测量数据与所述模拟数据之间的差;以及
基于所述差调整用以产生所述模拟轮廓的阈值,使得所述测量数据与所述模拟数据之间的所述差减小,其中经调整的阈值修改所述模拟轮廓的所述部分。
8.根据权利要求1所述的方法,其中修改所述模拟轮廓的所述部分包括:
使用所述模拟轮廓的所述部分确定在与测量CD值相关联的限定部位处的模拟CD值;
确定所述模拟CD值与所述测量CD值之间的差;和
基于所述差调整所述阈值使得所述模拟CD值与所述测量CD值之间的差减小,经调整的阈值修改所述模拟轮廓的所述部分。
9.根据权利要求1所述的方法,其中产生所述量测量规包括:
沿所述模拟轮廓的经修改的所述部分指定点;以及
将所述点的部位导出为所述量测量规。
10.根据权利要求1所述的方法,其中经由量测工具获得所述测量数据。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述量测工具是扫描电子显微镜(SEM)且从SEM图像获得所述测量数据。
12.根据权利要求1所述的方法,其中所述量测量规是边缘放置量规和/或CD量规。
13.根据权利要求1所述的方法,还包括:
将经修改的轮廓提供至图案化过程的模型以确定所述图案化过程的参数。
14.根据权利要求3所述的方法,还包括训练与图案化过程相关联的机器学习模型,所述方法包括:
使用所述测量数据和所述量测量规训练所述机器学习模型使得在所述衬底上的所述限定部位周围所述图案化过程的性能指标得到改善,所述性能指标是所述量测量规和所述物理特性的函数,其中所述机器学习模型是蚀刻模型或抗蚀剂模型。
15.一种计算机程序产品,包括其上记录有指令的非暂时性计算机可读介质,所述指令在由计算机执行时实施包括以下各项的方法:
获得(i)与印制于衬底上的结构的物理特性相关联的测量数据,和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少一部分,所述模拟轮廓的所述部分与所述测量数据相关联;
基于所述测量数据修改所述结构的所述模拟轮廓的所述部分;和
在所述模拟轮廓的经修改的所述部分上或附近产生量测量规,所述量测量规被放置以测量所述结构的所述模拟轮廓的所述物理特性。
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