[发明专利]改善离子检测器的泵送的方法和设备

权利要求书

1.一种用于操作离子检测器的方法，所述方法包括以下步骤：

提供包括具有一定范围的质量的离子的离子流，

基于质量分离所述离子流的所述离子，以及

控制所述分离的离子对所述离子检测器的电子发射表面的撞击的定时和/或次序，以修改所述离子检测器的一个或多个参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述离子检测器的所述一个或多个参数中的一个是电子通量。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中，所述离子检测器的所述一个或多个参数中的一个是在检测器运行时间期间所述电子发射表面被离子撞击的时间，与在检测器运行时间期间所述检测器不被离子撞击的时间相比较。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中，所述离子检测器的所述一个或多个参数中的一个是检测器泵送的水平或污染物对所述电子发射表面的污染的程度。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中，所述检测器被配置成限定内部检测器环境和外部检测器环境，并且所述离子检测器的所述一个或多个参数中的一个是所述内部检测器环境和所述外部检测器环境的耦合或解耦。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，所述离子检测器的所述一个或多个参数中的一个是性能参数或使用寿命参数，并且所述修改是所述性能参数或所述使用寿命参数的改进。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，包括以下步骤：控制所述分离的离子对所述电子发射表面的所述撞击，使得离子物类撞击的顺序使得所述离子物类中的至少三个的次序不是以按照质量的升序或降序进行。

8. 根据权利要求1至7中任一项所述的方法，包括以下步骤：控制所述分离的离子对所述电子发射表面的所述撞击，使得：

(i)与其中离子以按照质量的升序或降序撞击的操作方法相比，改变离子撞击的顺序，和/或

(ii)改变所述顺序或离子撞击以形成离子信号最大值，和/或

(iii)根据所述检测器的弛豫周期的定时来修改离子撞击的定时，和/或

(iv)修改离子撞击的定时，以缩短或延长两个不同质量的离子的所述撞击之间的时间段。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，将所述修改与检测器操作的方法进行比较，其中(a)离子按照质量以升序或降序撞击，或者(b)离子根据离子流的线性扫描在某个时间撞击。

10.一种用于操作离子检测器的方法，所述方法包括以下步骤：

提供包括具有一定范围的质量的离子的离子流，

基于质量分离所述离子流的所述离子，

控制所述分离的离子对所述离子检测器的电子发射表面的撞击的顺序和/或定时，以便与在检测器运行时间期间所述检测器未被离子撞击的时间相比，调节所述检测器被离子撞击的时间。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述离子检测器被构造成提供内部检测器环境和外部检测器环境，并且其中，控制的所述步骤导致所述内部检测器环境与所述外部检测器环境之间的所述耦合中的改变。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述耦合中的改变是所述内部检测器环境与所述外部检测器环境之间的耦合的水平的降低。

13.根据权利要求10至12中任一项所述的方法，其中，所述离子检测器被构造成提供内部检测器环境和外部检测器环境，并且其中，控制的所述步骤导致所述内部检测器环境的泵送中的改变。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，泵送中的所述改变是所述内部检测器环境的泵送中的增加。