[发明专利]使用常规装备的多光谱X射线成像

权利要求书

1.一种X射线成像装置(XI)，包括：具有阴极(C)和阳极(A)的X射线源(XS)，所述X射线源被配置为生成X辐射射束(XB)；以及X射线探测器(XD)，其用于探测在与被成像对象(OB)相互作用之后的X辐射，当所述X射线源(XS)在操作中时所述射束(XB)具有由足跟效应引起的在所述射束的阳极侧(AS)和阴极侧(XB)的不同的光谱；以及足跟效应利用(HH)机构，其被配置为通过与数据采集单元处的读出活动的定时一致地控制致动器来改变成像几何结构来使所述探测器(XD)的像素(PX、GR)交替曝光于所述射束(XB)的所述阳极侧(AS)和所述阴极侧(CS)两者，所述致动器作用于所述X射线源、患者检查台和所述探测器中的至少一项。

2.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述足跟效应利用(HH)机构引起所述对象(OB)与所述X射线射束(XB)之间的相对运动。

3.根据权利要求1或2所述的X射线成像装置，其中，所述运动是由所述被成像对象(OB)在成像期间驻留于的支撑件(TB)的至少部分的运动引起的，和/或是由所述X射线源(XS)的运动引起的。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线成像装置，其中，所述X射线源(XS)的所述运动是横向的和/或旋转的，使得所述阳极(A)和所述阴极(C)的相应位置被改变。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线成像装置，其中，所述足跟效应利用(HH)机构引起所述支撑件(TB)或支撑件(TB)和/或所述X射线源(XS)的运动，以便增加所述X射线源与所述对象(OB)之间的距离。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线成像装置，其中，多个像素被如此曝光，以获得针对所述多个像素的两组强度读数，针对两个光谱中的每个光谱，至少一组强度读数，所述装置还包括光谱成像处理器(SP)，所述光谱成像处理器被配置为基于所述两组强度读数来计算针对所述对象(OB)的光谱影像。

7.一种X射线成像装置(XI)，包括：X射线源(XS)，其被配置为生成X辐射射束(XB)；以及X射线探测器(XD)，其用于探测在与被成像对象(OB)相互作用之后的X辐射；以及可移动滤波器(FL)，其被布置在所述X射线源(XS)与所述对象(OB)之间并且能够由控制单元(CU)移动，以便将所述射束(XB)的光谱至少局部地改变为第一光谱和第二光谱，从而使所述探测器(XD)的像素(PX)在两个光谱处交替曝光于X辐射。

8.根据权利要求7所述的X射线成像装置，其中，所述滤波器(F)包括分别包括不同材料的子元件(E1、E2)，其中，由滤波器运动引起，所述子元件(E1、E2)中的至少两个子元件一次一个地被带入与所述像素(PX、GR)的配准。

9.根据权利要求8所述的X射线成像装置，其中，所述子元件以棋盘图案被布置。

10.一种用于X射线成像装置的图像采集方法，所述装置(XI)包括：具有阴极(C)和阳极(A)的X射线源(XS)，所述X射线源被配置为生成X辐射射束(XB)；以及X射线探测器(XD)，其用于探测在与被成像对象(OB)相互作用之后的X辐射，当所述X射线源(XS)在操作中时所述射束(XB)具有由足跟效应引起的在所述射束的阳极侧(AS)和阴极侧(XB)的不同的光谱，所述方法包括：

通过与数据采集单元处的读出活动的定时一致地控制致动器来改变成像几何结构来使所述探测器(XD)的像素(PX、GR)交替曝光(S810、S820)于所述射束(XB)的所述阳极侧(AS)和所述阴极侧(CS)两者，所述致动器作用于所述X射线源、患者检查台和所述探测器中的至少一项。