[发明专利]用于多射束SEM工具的自参考健康监测系统在审
申请号: | 202080060496.5 | 申请日: | 2020-08-20 |
公开(公告)号: | CN114424316A | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 方伟;浦凌凌 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26;H01J37/28;H01J37/304 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 赵林琳 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 多射束 sem 工具 参考 健康 监测 系统 | ||
1.一种用于监测多射束系统性能的方法,所述方法包括:
接收在成像过程期间操作的所述多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联;
基于使用所述记录的一部分所确定的基准值,来确定射束的异常是否发生;以及
响应于所述异常已经发生的确定,来提供异常指示。
2.一种用于监测多射束系统性能的系统,所述系统包括:
控制器,具有用以执行指令集的电路装置,所述指令集使所述系统:
接收在成像过程中针对所述多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联;
基于使用所述记录的一部分所确定的基准值,来确定射束的异常是否发生;以及
响应于所述异常已经发生的确定,来提供异常指示。
3.根据权利要求2所述的系统,其中用以使所述系统确定所述射束的异常是否发生的所述指令集,还使所述系统:
使用在所述成像过程的多个时间点处接收到的所述射束的记录的至少一个值,来确定所述射束的测试值;
确定所述射束的所述测试值与所述基准值之间的差异是否在预定范围内;以及
基于所述差异不在所述预定范围内的确定,来确定所述异常已经发生。
4.根据权利要求2所述的系统,还包括:
数据库,被配置为存储所述基准值或所述记录中的至少一者。
5.根据权利要求4所述的系统,其中所述指令集还使所述系统:
在确定所述差异是否在所述预定范围内之前,从所述数据库中检索所述记录或所述基准值中的至少一者。
6.根据权利要求2所述的系统,其中所述指令集还使所述系统:
在预定事件之后确定所述基准值。
7.根据权利要求6所述的系统,其中用以使所述系统在所述预定事件之后确定所述基准值的所述指令集,还使所述系统:
基于在所述预定事件之后接收到的性能度量的初始记录,来确定所述基准值。
8.根据权利要求6所述的系统,其中所述预定事件包括:完成所述多射束系统的维护或所述多射束系统的校准中的一者。
9.根据权利要求6所述的系统,其中所述预定事件包括:所述记录的每个值改变以偏移值,其中所述偏移值未偏离所述记录中的超过预定范围的值的平均值。
10.根据权利要求2所述的系统,其中所述指令集还使所述系统:
将所述基准值确定为所述记录的所述一部分的值的统计。
11.根据权利要求3所述的系统,其中所述射束的所述测试值包括所述射束的所述记录的所述至少一个值的统计。
12.根据权利要求10所述的系统,其中所述统计包括平均值、中值、方差值、标准偏差值或均方根值中的一个。
13.根据权利要求3所述的系统,其中所述射束的所述测试值包括:在所述多个时间点中的一个时间点处接收到的所述射束的所述记录的值。
14.根据权利要求2所述的系统,其中用以使所述系统确定所述射束的异常是否发生的所述指令集,还使所述系统:
根据对在多个时间点处接收到的所述记录的值执行的回归来确定第一回归参数,并且根据对在多个时间点处接收到的所述记录的所述一部分中的每个记录的值执行的回归来确定第二回归参数,所述第二回归参数中的每一个与所述记录的所述一部分中的一个记录相对应;
使用所述第二回归参数确定所述基准值;
确定所述第一回归参数与所述基准值之间的差异是否在预定范围内;以及
基于所述差异不在所述预定范围内的确定,来确定所述异常发生。
15.一种非瞬态计算机可读介质,存储有指令集,所述指令集可由装置的至少一个处理器执行、以使所述装置执行用于监测多射束系统的性能的方法,所述方法包括:
接收在成像过程中针对所述多射束系统的射束的性能度量的记录,每个记录与射束相关联;
基于使用所述记录的一部分所确定的基准值,来确定射束的异常是否发生;以及
响应于所述异常已经发生的确定,来提供异常指示。
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