[发明专利]近场通信表面和在所述表面上定位的方法在审

专利信息
申请号: 202080061256.7 申请日: 2020-08-26
公开(公告)号: CN114365001A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: R·帕尔马德;L·汉尼诺特;F·邦尼 申请(专利权)人: 圣特洛克公司
主分类号: G01S5/02 分类号: G01S5/02;H01Q1/22;H01Q21/00;G06K7/10;H04B5/00
代理公司: 深圳市百瑞专利商标事务所(普通合伙) 44240 代理人: 金辉
地址: 法国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 近场 通信 表面 表面上 定位 方法
【权利要求书】:

1.用于与至少一个电子ID标签(D1、D2)进行通信的近场通信表面(1、1'、1”),所述表面包括:

-多个天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8),每个天线具有沿第一轴线(X)的位置(x1-x8、xi),所述位置对应于依据所述第一轴线(X)的天线的最大通量,

-用于读取电子标签的至少一个电路(100、100'、100”、100C),其连接到所述天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8),从而为所述天线供电并与所述至少一个电子ID标签(D1、D2)通信,

-处理单元(200),其控制天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8)和用于读取电子标签的至少一个电路(100、100'、100”、100C),并且所述处理单元(200)设置成一次仅激活一个天线和所述至少一个读取器电路,以便与所述至少一个电子ID标签(D1、D2)通信,

其特征在于,为了根据所述至少一个电子ID标签(D1、D2)的响应次数(Ri、Rik、RCi)或响应时间(TR、TRi、TRik、TRCi)来定位所述至少一个电子ID标签(D1、D2)沿第一轴线(X)的位置(x(Dj)),处理单元(200)配置为通过每个天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8)向至少一个电子ID标签(D1、D2)发送命令。

2.根据权利要求1所述的近场通信表面(1、1'、1”),其中,所述处理单元(200)配置为

-通过至少一个读取器电路(100、100'、100”、100C)和每个天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8)向至少一个电子ID标签(D1、D2)发送预定次数的命令,

-计算每个天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8)接收到的响应次数(TR,TRi、TRik、TRCi),以及

-通过由每个天线接收到的响应次数(TR、TRi、TRik、TRCi)对天线的位置(x1-x8、xi)进行加权平均来计算至少一个电子ID标签(D1、D2)的位置(x(Dj))。

3.根据权利要求2所述的近场通信表面(1、1'、1”),其中,所述处理单元(200)配置为控制所述读取器电路的传输功率,使得通过预定数量的传输功率来发送预定次数的命令。

4.根据权利要求1所述的近场通信表面(1、1'、1”),其中,所述处理单元配置为

-通过至少一个读取器电路(100、100'、100”、100C)和每个天线(A1-A8、Ai、An、A11-A27、AC1-AC8)向具有相同传输功率的至少一个电子ID标签(D1、D2)发送至少一个命令,

-测量每个天线的所述至少一个电子ID标签(D1、D2)的响应时间(TR、TRi、TRik、TRCi),以及

-根据测量的响应时间(TR、TRi、TRik、TRCi)与预期的响应时间(FDT)的差值计算至少一个电子ID标签(D1、D2)的位置。

5.根据权利要求4所述的近场通信表面(1、1'、1”),其中,所述处理单元配置为通过测量的响应时间(TR、TRi、TRik、TRCi)和预期的响应时间的差值(FDT)的倒数对天线的位置(x1-x8、xi)进行加权平均来计算至少一个电子ID标签(D1、D2)的位置。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的近场通信表面(1'、1”),其中,所述通信表面还包括:

-第二多个天线(A11-A27、AL1-AL4),每个天线具有依据第二轴线(Y)的位置(y1-y4、yk),所述位置对应于依据所述第二轴线(Y)的天线的最大通量,所述第二轴线(Y)与所述第一轴线(X)相交,所述第二多个天线(A11-A27、AL1-AL4)连接到用于读取电子标签的至少一个电路(100'、100”、100L),并且所述第二多个天线(A11-A27、AL1-AL4)由处理单元(200)控制,其中,所述处理单元(200)配置为根据所述至少一个电子ID标签(D1、D2)的响应次数(Rik、RLi)或响应时间(TRik、TRLi)来定位所述至少一个电子ID标签(D1、D2)沿第二轴线(Y)的位置(y(DJ))。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于圣特洛克公司,未经圣特洛克公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080061256.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top