[发明专利]粒子线治疗系统以及磁共振成像装置

说明书

本发明提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统，能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。具有：床(24)，其搭载照射目标(26)；照射装置(21)，其朝向照射目标照射粒子线；以及磁共振成像装置(150)，其拍摄照射对象(25)的图像。磁共振成像装置(150)具备：磁铁(50)，其在配置有照射目标(26)的摄像空间(55)产生静磁场；以及磁轭(60)，其配置于摄像空间(55)以外，供磁铁(50)产生的磁场的磁通通过。从摄像空间(55)观察，照射装置(21)配置于磁轭(60)的背面侧，从设置于磁轭(60)的贯通孔或设置于磁轭的间隙向照射目标照射粒子线。粒子线进入摄像空间的方向与由磁铁对摄像空间施加的静磁场的朝向交叉。

技术领域

本发明涉及一种向患部照射质子线和碳线等带电粒子射束(以下，称为粒子线)的治疗装置。

背景技术

已知有以患者的癌症等为目标来照射粒子线的粒子线照射装置。粒子线照射装置通过加速器对带电粒子进行加速而生成粒子线，并通过射束输送系统进行输送，从治疗室内的照射装置朝向患者的患部进行照射。此时，有时也使用扫描照射法，该扫描照射法通过利用照射装置所具备的扫描电磁铁对粒子线进行扫描，从而在患者的体内形成适合于患部形状的剂量分布。

然而，当患部等的照射目标因患者的呼吸运动等而移动时，难以以适合于预先计划的患部形状的剂量分布对患部进行照射。因此，为了形成所计划的剂量分布，在非专利文献1中公开了如下技术：在粒子线照射装置中搭载照射装置并在患者的周围旋转的机架上，还搭载磁共振成像(以下，称为MRI)装置，通过MRI装置对目标的位置进行摄像。如果从所拍摄的MRI图像检测出目标位于预先决定的位置(射出许可范围)，则在该定时照射粒子线(选通照射)。

另外，在专利文献1和专利文献2中公开了如下技术：在组合了MRI装置和粒子线照射装置的系统中，通过使MRI装置对摄像区域施加的静磁场的方向与粒子线的入射方向大致平行，来缓和MRI装置的静磁场对粒子线的轨道造成的影响。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特表2008-543471号公报

专利文献2：日本专利第6519932号公报

非专利文献

非专利文献1：B.M.Oborn,etal.Med.Phys.44(8)2017

发明内容

发明所要解决的课题

如非专利文献1所记载的技术那样，在粒子线照射装置的机架上搭载有MRI装置的结构会产生如下问题：MRI装置产生的静磁场泄漏到MRI装置的周围，对粒子线照射装置造成影响。例如，为了测量向目标照射的粒子线的位置和照射量，在照射装置中配置粒子线监视器。为了减小通过粒子线监视器后的粒子线的扩展，优选将该粒子线监视器尽可能地配置在接近目标的位置。但是，由于粒子线监视器是检测通过粒子线电离的气体的离子和电子的结构，所以容易受到磁场的影响，在存在MRI装置的泄漏磁场的情况下，若接近MRI装置配置，则检测精度降低。

另一方面，在专利文献2的技术中，为了通过MRI装置的磁铁(线圈)的中心朝向目标照射粒子线，在磁铁的上表面的磁屏蔽件开设贯通孔，使粒子线通过贯通孔。在该结构中，粒子线的照射场尺寸取决于贯通孔尺寸，为了增大照射场，需要增大贯通孔尺寸，但若增大贯通孔尺寸，则磁铁的磁场向磁屏蔽件的外侧泄漏。因此，难以使粒子线监视器接近磁铁。另外，当磁铁的磁场从磁屏蔽件的贯通孔泄漏时，还产生难以确保摄像区域的均匀磁场的问题。

本发明的目的在于提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统，能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。

用于解决课题的手段