[发明专利]用于电镀单元的低角度膜框架

权利要求书

1.一种处理衬底的单元，所述单元包括：

至少一个室壁，其布置成在所述衬底的保持器下方形成腔体；

膜框架，其设置在所述至少一个室壁上并横跨所述腔体；以及

由所述膜框架支撑并将第一电解质与第二电解质隔开的膜，其中所述膜包括从所述腔体的中心以相对于参考平面的角度径向向外延伸的表面，并且其中所述角度大于或等于0°且小于或等于3°。

2.根据权利要求1所述的单元，进一步包括设置在所述膜框架上方的高电阻虚拟阳极板，其中所述参考平面平行于所述高电阻虚拟阳极板的表面延伸。

3.根据权利要求2所述的单元，其中所述高电阻虚拟阳极板的所述表面为所述高电阻虚拟阳极板的顶表面或底表面。

4.根据权利要求1所述的单元，其中所述参考平面在水平方向上延伸。

5.根据权利要求1所述的单元，其中当在所述单元中处理所述衬底时，所述参考平面平行于所述衬底的表面延伸。

6.根据权利要求1所述的单元，其中所述参考平面平行于所述单元的底壁的表面延伸，其中所述至少一个室壁包括所述底壁。

7.根据权利要求1所述的单元，其中附接有所述膜的所述膜框架的一部分为“V”形。

8.根据权利要求1所述的单元，其中当由所述膜框架支撑时，所述膜为“V”形。

9.根据权利要求1所述的单元，其中所述膜的至少一部分是离子可渗透的。

10.根据权利要求1所述的单元，其中：

所述表面为第一表面；

所述膜框架包括第二表面；以及

所述第一表面和所述第二表面以朝向所述腔体的中心线的角度向内和向下倾斜。

11.根据权利要求1所述的单元，其中所述角度小于或等于2°。

12.根据权利要求1所述的单元，其中所述角度小于或等于1°。

13.根据权利要求1所述的单元，其中所述角度在1°至2°之间。

14.根据权利要求1所述的单元，其中所述角度在2°至3°之间。

15.根据权利要求1所述的单元，其中所述膜是离子可渗透膜，其将布置在所述膜的第一侧上的第一电解质与布置在所述膜的第二侧上的第二电解质隔开。

16.根据权利要求1所述的单元，其中所述膜框架包括用于保持所述膜的夹持器。

17.根据权利要求1所述的单元，其中所述膜框架包括用于从所述腔体内释放气体的排气口。

18.根据权利要求1所述的单元，进一步包括设置在所述膜下方的所述腔体中的电极。

19.根据权利要求18所述的单元，其中所述电极是阳极。

20.根据权利要求1所述的单元，进一步包括：

设置在所述膜框架上方的高电阻虚拟阳极板；

设置在所述高电阻虚拟阳极板上方的顶侧插入件；

设置在所述顶侧插入件上方的杯状物；以及

设置在所述杯状物上方的锥体，

其中所述杯状物和所述锥体被配置为保持所述衬底。