[发明专利]利用压电材料的机械氧化还原反应和使用该反应的制造方法在审

专利信息
申请号: 202080062189.0 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN114364661A 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 伊藤肇;久保田浩司 申请(专利权)人: 国立大学法人北海道大学
主分类号: C07D307/38 分类号: C07D307/38;C07D307/54;C07D307/42;C07D307/36;C07D333/12;C07D333/38;C07C201/12;C07C205/06;C07F5/02;C07D209/10;C07D209/14;C07D209/20;C07D207/325
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 压电 材料 机械 氧化 还原 应和 使用 反应 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种高反应性中间体的产生方法,其包括如下工序:

准备受电子活性化合物(1);

准备压电材料(3);以及

在受电子活性化合物(1)和压电材料(3)的存在下,对压电材料(3)施加机械应变,对化合物(1)进行单电子还原,产生对应的高反应性中间体。

2.根据权利要求1所述的高反应性中间体的产生方法,其中,受电子活性化合物(1)选自下述通式(I-1)所示的具有脱离基团的芳基化合物和下述式(1-2a)~(I-2c)所示的三氟甲基化合物,所述三氟甲基化合物选自任选具有取代基的三氟甲基-二苯并噻吩(I-2a)、任选具有取代基的三氟甲基-二苯基硫醇(I-2b)和三氟甲烷磺酰氯(I-2c),

A1-Xn(I-1)

A1选自任选具有取代基的芳基和任选具有取代基的杂芳基,X为脱离基团,n为1以上的整数;

R12相互独立地包含氢、烷基、烷氧基、环烷基、烯基、炔基、芳基、芳氧基、酰基、烷氧基羰基、氨基、氟、氯、氰基、硝基等,R12彼此任选相互交联,任选形成环状结构,进而任选具有其它取代基,R12任选进一步被例如氧原子、硫原子、氮原子、羰基、酯键等嵌入,-X12表示阴离子。

3.根据权利要求2所述的产生方法,其中,受电子活性化合物(1)选自式(I-1)所示的具有脱离基团的芳基化合物,

通式(I-1)中,

A1的任选具有取代基的芳基包含苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基、三联苯基、芘基、苝基、三苯并苯基,

A1的任选具有取代基的杂芳基包含含硫杂芳基、含氧杂芳基、含氮杂芳基、以及包含两种以上杂原子的杂芳基,

脱离基团X包含碘、溴、氯、重氮盐。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的产生方法,其中,压电材料(3)包含选自钛酸钡、铌酸锂、电气石、石英、黄玉、蔗糖、罗谢尔盐(KNaC4H4O6·4H2O)、原(正)磷酸镓(GaPO4)、硅酸镧镓(La3Ga5SiO14)、钛酸铅(PbTiO3)、钛酸锆酸铅、铌酸钾(KNbO3)、钽酸锂(LiTaO3)、钨酸钠(NaXWO3)、氧化锌(ZnO、Zn2O3)、Ba2NaNb5O5、Pb2KNb5O15、四硼酸锂(Li2B4O7)、铌酸钠钾((K,Na)NbO3)、铋铁氧体(BiFeO3)、铌酸钠(NaNbO3)、钛酸铋(Bi4Ti3O12)、钛酸铋钠(Na0.5Bi0.5TiO3)、聚偏二氟乙烯、氮化铝(AlN)、磷酸镓(GaPO4)、镓砷(GaAs)中的至少1种。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的产生方法,其中,高反应性中间体包含选自自由基、阴离子自由基和阴离子中的至少1种。

6.一种氧化还原反应方法,其包括权利要求1~5中任一项所述的高反应性中间体的产生方法,所述氧化还原反应方法包括:

使受电子活性化合物(1)进行氧化还原反应,生成氧化还原反应产物。

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