[发明专利]废气净化用催化剂、废气的净化方法和废气净化用催化剂的制造方法在审
申请号: | 202080062964.2 | 申请日: | 2020-10-06 |
公开(公告)号: | CN114340784A | 公开(公告)日: | 2022-04-12 |
发明(设计)人: | 小系祐介;F·道恩豪斯 | 申请(专利权)人: | 优美科触媒日本有限公司 |
主分类号: | B01J23/44 | 分类号: | B01J23/44;B01J35/10;B01J37/02;B01J37/16;B01D53/86 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 张智慧 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 废气 净化 催化剂 方法 制造 | ||
1.废气净化用催化剂,其包含:
三维结构体,和
载持于所述三维结构体的催化剂成分,所述催化剂成分包含含有铂和钯的贵金属复合体、和多孔体,
其中,所述铂的表面富集率C(Pt)为0.00070以上且0.01000以下,
所述钯的表面富集率C(Pd)为0.00800以上且0.10000以下,
所述表面富集率C(Pt)用C(Pt)=PXPS(Pt)/(d2×PTEM(Pt)×0.01)表示,
所述表面富集率C(Pd)用C(Pd)=PXPS(Pd)/(d2×PTEM(Pd)×0.01)表示,
所述d表示通过X射线衍射法(XRD)求出的所述贵金属复合体的微晶直径,
所述PXPS(Pt)表示通过X射线光电子能谱法(XPS)求出的所述铂相对于催化剂成分的质量百分比浓度,
所述PXPS(Pd)表示通过X射线光电子能谱法(XPS)求出的所述钯相对于催化剂成分的质量百分比浓度,
所述PTEM(Pt)表示通过透射电子显微镜-能量色散X射线能谱法(TEM-EDS)求出的所述铂相对于所述贵金属复合体的质量百分比浓度,
所述PTEM(Pd)表示通过透射电子显微镜-能量色散X射线能谱法(TEM-EDS)求出的所述钯相对于所述贵金属复合体的质量百分比浓度。
2.根据权利要求1所述的废气净化用催化剂,其中,所述d为1nm以上且50nm以下。
3.废气的净化方法,其包括使废气流经权利要求1或2所述的废气净化用催化剂的工序。
4.废气净化用催化剂的制造方法,其包括:
获得含有铂、钯和保护剂的贵金属溶液的第1工序;
混合所述贵金属溶液和还原剂,获得还原溶液的第2工序;
混合所述还原溶液和多孔体,获得浆料的第3工序;
将所述浆料涂布于三维结构体的第4工序;和
加热所述浆料的第5工序,
在所述第2工序中,所述贵金属溶液和所述还原剂的温度为10℃以上且40℃以下。
5.根据权利要求4所述的废气净化用催化剂的制造方法,其中,所述贵金属溶液含有2g/L以上且50g/L以下的所述保护剂。
6.根据权利要求4或5所述的废气净化用催化剂的制造方法,其中,在所述还原溶液中,所述还原剂相对于贵金属的摩尔比为0.2以上且1.6以下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于优美科触媒日本有限公司,未经优美科触媒日本有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080062964.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。