[发明专利]表面处理剂

权利要求书

1.一种表面处理剂，其特征在于：

含有下述式(1a)或(1b)所示的含氟代聚醚基的硅烷化合物、下述式(2)所示的含氨基的硅烷化合物和下述式(3)所示的含环氧基的硅烷化合物，

R^F1_α-X^A-R^Si_β (1a)

R^Si_γ-X^A-R^F2-X^A-R^Si_γ (1b)

式(1a)和(1b)中，

R^F1为Rf¹-R^F-O_q-；

R^F2为-Rf²_p-R^F-O_q-；

Rf¹在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C_1-16烷基；

Rf²为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C_1-6亚烷基；

R^F为2价的氟代聚醚基；

p为0或1；

q在每次出现时分别独立地为0或1；

X^A分别独立地为单键或2～10价有机基团；

R^Si在每次出现时分别独立地为具有键合有羟基或水解性基团的Si原子的1价基团；

α为1～9的整数；

β为1～9的整数；

γ分别独立地为1～9的整数，

SiR^N_s1R⁸¹_s2R⁸²_s3 (2)

式(2)中，

R^N分别独立地为含有氨基的1价有机基团；

R⁸¹分别独立地为羟基或水解性基团；

R⁸²分别独立地为氢原子或1价有机基团，其中不含水解性基团和氨基，

s1分别独立地为1～3的整数；

s2分别独立地为1～3的整数；

s3分别独立地为0～2的整数，

SiR^E_t1R⁹¹_t2R⁹²_t3 (3)

式(3)中，

R^E分别独立地为含有环氧基的1价有机基团；

R⁹¹分别独立地为羟基或水解性基团；

R⁹²分别独立地为氢原子或1价有机基团，其中不含水解性基团和环氧基；

t1分别独立地为1～3的整数；

t2分别独立地为1～3的整数；

t3分别独立地为0～2的整数。