[发明专利]带低辐射层积膜的玻璃板和玻璃产品

权利要求书

1.一种带低辐射层积膜的玻璃板，其中，

其具备玻璃板、

以及由所述玻璃板支承的低辐射层积膜，

所述低辐射层积膜具有配置在所述低辐射层积膜的最外侧的含有ZrO₂的层、以及配置在所述玻璃板与所述含有ZrO₂的层之间的透明导电层，

所述含有ZrO₂的层中的ZrO₂的含量为8mol％以上100mol％以下，

所述含有ZrO₂的层中的SiO₂的含量为0mol％以上92mol％以下，

所述含有ZrO₂的层的表面的算术平均粗糙度Ra为12nm以下且小于所述透明导电层的表面的算术平均粗糙度Ra。

2.如权利要求1所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层的所述表面的所述算术平均粗糙度Ra为14nm以上。

3.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层实质上由含氟氧化锡构成。

4.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层为实质上由含氟氧化锡构成且具有200nm以上400nm以下的厚度的层。

5.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层为实质上由含氟氧化锡构成且具有400nm以上800nm以下的厚度的层。

6.如权利要求1或2所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述透明导电层包含：

实质上由含锑氧化锡构成且具有100nm以上300nm以下的厚度的第1透明导电层；以及

实质上由含氟氧化锡构成且具有150nm以上400nm以下的厚度的第2透明导电层。

7.如权利要求1～6中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述低辐射层积膜进一步具有配置在所述玻璃板与所述透明导电层之间的基底层。

8.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层为包含碳氧化硅作为主成分且具有20nm以上120nm以下的厚度的层。

9.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层包含：

实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第1基底层；以及

实质上由SiO₂构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层。

10.如权利要求7所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述基底层包含：

实质上由SiO₂构成且具有10nm以上30nm以下的厚度的第1基底层；

实质上由氧化锡构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第2基底层；以及

实质上由SiO₂构成且具有10nm以上90nm以下的厚度的第3基底层。

11.如权利要求1～10中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述含有ZrO₂的层的物理膜厚为15nm以上150nm以下。

12.如权利要求1～11中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板，其中，所述含有ZrO₂的层的物理膜厚为30nm以上150nm以下。

13.一种玻璃产品，其是通过用作建筑物的天窗而将室内空间和室外空间进行分离的玻璃产品，其中，

所述玻璃产品具备权利要求1～12中任一项所述的带低辐射层积膜的玻璃板、以及隔着空隙层与所述带低辐射层积膜的玻璃板对置的第2玻璃板，

所述带低辐射层积膜的玻璃板中包含的所述低辐射层积膜与所述室外空间相接。