[发明专利]自动分析装置在审

专利信息
申请号: 202080064302.9 申请日: 2020-09-18
公开(公告)号: CN114424068A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 高桥拓也 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G01N35/10 分类号: G01N35/10;B05B15/555
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金成哲;宋春华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 自动 分析 装置
【权利要求书】:

1.一种自动分析装置,是向反应容器中分别分注试样和试剂并使其反应,测定该进行了反应的液体的自动分析装置,其特征在于,具备:

多个分注机构;

控制多个上述分注机构的控制器;

设置于多个上述分注机构中仅1个进行访问的位置,对访问的上述分注机构进行通常的清洗的、各个上述分注机构专用的通常清洗槽;以及

设置于多个上述分注机构均进行访问的位置,对访问的上述分注机构进行与通常不同的清洗的、各个上述分注机构共用的特别清洗槽。

2.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,具有:

分注动作,上述分注机构在上述试样或上述试剂的吸引位置与上述试样或上述试剂的排出位置之间往复运动,并且在中途访问上述通常清洗槽;以及

特别动作,在上述特别清洗槽对上述分注机构进行特别清洗,

一方的上述分注机构在上述特别动作时对上述特别清洗槽进行访问时的一方的上述分注机构和另一方的上述分注机构在上述分注动作时在上述吸引位置与上述排出位置之间往复运动的轨迹具有干涉区域,

在一方的上述分注机构进行上述特别动作且另一方的上述分注机构进行上述分注动作的情况下,上述控制器在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动时,使一方的上述分注机构访问远离上述特别清洗槽的退避位置。

3.根据权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于,

上述特别清洗具有第一特别清洗和之后的第二特别清洗,

上述控制器进行以下的控制:

在另一方的上述分注机构进行第一个循环的上述分注动作时,使一方的上述分注机构进行上述第一特别清洗,并且在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动的期间,使一方的上述分注机构访问上述退避位置,

在另一方的上述分注机构进行第二个循环的上述分注动作时,使一方的上述分注机构进行上述第二特别清洗,并且在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动的期间,使一方的上述分注机构访问上述退避位置。

4.根据权利要求3所述的自动分析装置,其特征在于,

上述特别动作是在进行上述特别清洗后访问干燥机构来进行上述分注机构的干燥的动作,

上述控制器进行如下的控制:

在另一方的上述分注机构进行第二个循环的上述分注动作时,使一方的上述分注机构在进行了比上述第一特别清洗短的上述第二特别清洗之后,在另一方的上述分注机构在上述干涉区域移动的期间,一方的上述分注机构访问上述退避位置,之后,访问上述干燥机构而进行干燥。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的自动分析装置,其特征在于,

一方的上述分注机构访问上述通常清洗槽时的一方的上述分注机构和另一方的上述分注机构在上述分注动作时在上述吸引位置与上述排出位置之间往复运动的轨迹不具有干涉区域,

上述退避位置是上述通常清洗槽的位置。

6.根据权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于,具有:

分注动作,上述分注机构在上述试样或上述试剂的吸引位置与上述试样或上述试剂的排出位置之间往复运动,并且在中途访问上述通常清洗槽;以及

特别动作,在上述特别清洗槽对上述分注机构进行特别清洗,

一方的上述分注机构在上述特别动作时对上述特别清洗槽进行访问时的一方的上述分注机构和另一方的上述分注机构在上述分注动作时在上述吸引位置与上述排出位置之间往复运动的轨迹具有干涉区域,

在一方的上述分注机构进行上述特别动作且另一方的上述分注机构也进行上述特别动作的情况下,上述控制器在一方的上述分注机构进行上述特别清洗时,使另一方的上述分注机构访问远离上述特别清洗槽的退避位置。

7.根据权利要求6所述的自动分析装置,其特征在于,

上述退避位置是上述通常清洗槽的位置。

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