[发明专利]用于DAX光栅的稳定顶部桥制造

权利要求书

1.一种用于产生成像装置的X射线光栅的方法(100)，所述成像装置用于X射线暗场成像和/或X射线相衬成像，所述方法包括以下步骤：

a)在平坦样本(16)上产生(110)具有多个周期性布置的光栅网(12)和光栅开口(14)的抗蚀剂负光栅(10)；

b)通过以下操作通过电镀来填充(120)所述平坦样本上的所述光栅开口：持续进行所述电镀直到所述光栅网的高度以形成光栅薄片(18)；

c)在所述抗蚀剂负光栅的顶部(22)上处理(130)窗体(26)，所述窗体使得能够引入实质上垂直于所述光栅网的顶部桥(24)；

d)使所述抗蚀剂负光栅弯曲(140)到期望半径；并且

e)通过电镀来填充(150)所述窗体以在使所述抗蚀剂负光栅弯曲之后形成所述顶部桥。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：

-在执行所述电镀之后移除所述光栅薄片之间的所述抗蚀剂负光栅。

3.根据权利要求1或2所述的方法，

其中，在步骤d)中，提供允许使所述抗蚀剂负光栅精确弯曲到所述期望半径的框架。

4.根据权利要求3所述的方法，

其中，所述框架的所述弯曲半径与所述成像装置中靠近于X射线管的安装位置兼容。

5.根据权利要求3或4所述的方法，

其中，所述框架是非导电材料的，或者所述框架完全由非导电材料覆盖。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，步骤e)还包括选择用于所述电镀的温度，其中，选定的温度被选择为使得在所述成像装置中的所述X射线光栅的操作条件下，所述X射线光栅的几何结构变化和/或机械应力最小或接近最小。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，所述顶部桥被成形为使得在所述成像装置中的所述X射线光栅的操作条件下，由于所述顶部桥造成的机械应力最小或接近最小。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，所述顶部桥和所述光栅薄片是由相同材料造出的。

9.根据权利要求1至7中的任一项所述的方法，

其中，所述光栅薄片是以高X射线吸收材料来电镀的；并且

其中，所述顶部桥是以低X射线吸收材料来电镀的。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，所述抗蚀剂负光栅包括用于使所述网稳定的多个稳定结构。

11.根据权利要求10所述的方法，

其中，所述稳定结构包括桥结构和/或太阳光线结构。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，

其中，步骤d)中的所述弯曲是正弯曲或负弯曲。

13.一种由根据权利要求1所述的方法产生的微结构。

14.一种用于捕获对象的图像的成像装置(200)，包括：

-X射线源(210)；

-源光栅(G0)；

-衍射光栅(G1)，其用于使从所述X射线源发射的X射线衍射；

-吸收光栅(G2)，其用于吸收由所述衍射光栅衍射的所述X射线的部分；以及

-探测器(220)，其用于探测已经穿过所述吸收光栅的所述X射线；

其中，所述源光栅、所述衍射光栅和所述吸收光栅中的至少一项包括根据权利要求13所述的微结构。

15.一种用于执行X射线相衬和/或暗场成像的方法(300)，包括：

-将对象(50)定位(310)在根据权利要求14所述的成像装置的所述源光栅(G0)与所述衍射光栅(G1)之间或者所述衍射光栅(G1)与所述吸收光栅(G2)之间；

-将X射线射束(52)发射(320)到所述对象上；并且

-探测(330)已经穿过所述对象、所述成像装置的所述源光栅、所述衍射光栅和所述吸收光栅的所述X射线射束以用于采集图像数据。