[发明专利]具有用于分配一起反应的两种或更多种流体的防堵塞喷射顶端的分配系统和装置

权利要求书

1.一种用于分配一起反应的流体的喷射顶端，包括：

第一管腔；

第二管腔；

分配顶盖，所述分配顶盖位于相应的所述第一管腔和所述第二管腔的远侧端部处并限定所述喷射顶端的远侧端部，所述分配顶盖包括

远侧端壁，所述远侧端壁限定所述分配顶盖的闭合端；

第一喷射孔，所述第一喷射孔形成于所述远侧端壁中并与所述第一管腔流体连通，

第二喷射孔，所述第二喷射孔形成于所述远侧端壁中并与所述第二管腔流体连通，

外部分隔壁，所述外部分隔壁从所述分配顶盖的所述远侧端壁朝远侧突出并在所述第一喷射孔与所述第二喷射孔之间延伸，用于形成所述第一喷射孔与所述第二喷射孔之间的阻隔件。

2. 根据权利要求1所述的喷射顶端，还包括：

所述第一喷射孔包括从所述分配顶盖的所述远侧端壁的外表面朝远侧突出的第一凸起丘；以及

所述第二喷射孔包括从所述分配顶盖的所述远侧端壁的所述外表面朝远侧突出的第二凸起丘，其中，所述外部分隔壁具有固定到所述远侧端壁的所述外表面的近侧端部以及位于所述第一凸起丘和所述第二凸起丘的相应顶点远侧的用于限定所述分配顶盖的最远端的远侧自由端。

3.根据权利要求2所述的喷射顶端，其中，相应的所述第一喷射孔和所述第二喷射孔的所述第一凸起丘和所述第二凸起丘包括适于排斥流体的疏水表面。

4.根据权利要求1所述的喷射顶端，其中，所述分配顶盖还包括：

圆柱形主体，所述圆柱形主体具有用于与所述第一管腔和所述第二管腔的所述远侧端部联接的开放的近侧端部以及被所述远侧端壁闭合的远侧端部；

内部分隔壁，所述内部分隔壁位于所述圆柱形主体内部并在所述圆柱形主体的所述近侧端部与所述远侧端壁之间延伸，用于将所述分配顶盖的内部区域划分成与所述第一管腔流体连通的第一室和与所述第二管腔流体连通的第二室。

5.根据权利要求4所述的喷射顶端，其中，所述分配顶盖的所述远侧端壁具有内表面，并且其中所述内部分隔壁具有固定到所述远侧端壁的所述内表面的远侧端部，用于将所述分配顶盖的所述远侧端壁的所述内表面划分成设置在所述第一室内的第一区域和设置在所述第二室内的第二区域。

6.根据权利要求5所述的喷射顶端，还包括：

第一流体通路，所述第一流体通路形成于所述分配顶盖的所述远侧端壁的所述内表面的所述第一区域中，其中，所述第一流体通路与所述第一喷射孔流体连通；

第二流体通路，所述第二流体通路形成于所述分配顶盖的所述远侧端壁的所述内表面的所述第二区域中，其中，所述第二流体通路与所述第二喷射孔流体连通。

7.根据权利要求6所述的喷射顶端，其中，所述第一流体通路包括：

第一涡流室，所述第一涡流室与所述第一喷射孔流体连通；

一对第一沟槽，所述一对第一沟槽从所述第一涡流室径向向外延伸。

8.根据权利要求7所述的喷射顶端，其中，所述第二流体通路包括：

第二涡流室，所述第二涡流室与所述第二喷射开口流体连通；

一对第二沟槽，所述一对第二沟槽从所述第二涡流室径向向外延伸。

9.根据权利要求8所述的喷射顶端，还包括：

所述第一管腔容纳被引导到所述分配顶盖的所述第一流体通路中的第一流体，其中，所述第一涡流室被构造成在从所述第一喷射孔分配所述第一流体之前旋转所述第一流体；

所述第二管腔容纳被引导到所述分配顶盖的所述第二流体通路中的第二流体，其中，所述第二涡流室被构造成在从所述第二喷射孔分配所述第二流体之前旋转所述第二流体，其中所述第一流体和所述第二流体在从相应的所述第一喷射孔和所述第二喷射孔分配之后一起发生化学反应。