[发明专利]一种用于制备复合过滤介质的方法和用该方法获得的复合过滤介质

权利要求书

1.一种用于制备复合过滤介质(1)的方法，包括通过借助于静电纺丝工艺在基底织物(2)上沉积纳米纤维(4)来形成第一过滤介质(8)的步骤以及通过在真空室(9)中在所述第一过滤介质(8)上等离子体沉积包覆层(7)来覆盖所述过滤介质(1)的步骤，其特征在于，在所述静电纺丝工艺之后并且在所述包覆层(7)的所述等离子体沉积之前，所述方法提供在相同的室(9)内对形成前述第一过滤介质(8)的所述基底织物(2)和所述纳米纤维(4)的脱气步骤。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述脱气步骤期间，使前述室(9)达到在5毫托和250毫托之间的内部压力值。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述脱气步骤期间，确保所述材料在所述室中从5秒至5分钟的暴露时间。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在前述脱气步骤之后并且在所述包覆层(7)的所述等离子体沉积之前，所述方法还提供通过在载气的存在下并且在没有任何含聚合物的气体的情况下在所述室(9)中进行的对在先前脱气步骤中获得的所述第一过滤介质(8)的等离子体处理，在所述基底织物(2)和前述纳米纤维(4)的表面上形成不规则部的步骤。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，前述载气选自氮气、氦气、氩气或氧气。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，前述等离子体处理在所述室(9)中在10毫托-400毫托的压力、采用100W-2000W的电极功率并且采用在5秒和5分钟之间的暴露时间来进行。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述静电纺丝工艺包括借助于喷嘴(5)挤出溶解在合适溶剂中的聚合物，并且随后在所述喷嘴本身和电极之间拉伸纤维，从而获得纳米纤维在所述基底织物上的沉积，所述基底织物合适地置于所述喷嘴和所述电极之间，由此获得的所述过滤介质(8)随后经历通过在所述基底织物(2)的暴露表面和所述纳米纤维层(4)的暴露表面上等离子体沉积纳米厚度的聚合物层(7)的表面处理，获得前述复合过滤介质(1)，其中所述基底织物(2)的单丝(3)的外表面和前述纳米纤维(4)的外表面包覆有所述聚合物层(7)。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，前述等离子体沉积处理包括产生10毫托-50毫托的真空、150瓦-350瓦的电极功率和0.5分钟-6分钟的暴露时间。

9.一种用于制备复合过滤介质(1)的方法，包括通过借助于静电纺丝工艺在基底织物(2)上沉积纳米纤维(4)来形成第一过滤介质(8)的步骤以及通过在真空室(9)中在所述第一过滤介质(8)上等离子体沉积包覆层(7)来覆盖所述过滤介质(1)的步骤，其特征在于，在所述静电纺丝工艺之后并且在所述包覆层(7)的所述等离子体沉积之前，所述方法提供通过在载气的存在下并且在没有任何含聚合物的气体的情况下在所述室(9)中进行的对所述第一过滤介质(8)的等离子体处理，在所述基底织物(2)和所述纳米纤维(4)的表面上形成不规则部的步骤。

10.一种复合过滤介质，所述复合过滤介质是包括基底织物(2)的类型，在所述基底织物(2)上沉积有纳米纤维(4)，其特征在于，所述基底织物和前述纳米纤维覆盖有借助于等离子体工艺施加的纳米包覆层(7)，所述基底织物(2)和所述纳米纤维(4)具有通过在载气的存在下并且在没有任何含聚合物的气体的情况下等离子体处理获得的纳米凹槽。

11.根据权利要求10所述的过滤介质，其特征在于，前述包覆层(7)由具有高达500nm的厚度、优选地具有15nm-60nm的厚度的膜形成。

12.根据权利要求10所述的过滤介质，其特征在于，前述包覆层(7)是基于具有斥水和斥油特性的氟碳丙烯酸酯的包覆层。