[发明专利]用于光刻成像的方法和设备

权利要求书

1.一种使用光刻系统模拟待成像于衬底上的图案的方法，所述方法包括：

获得待成像于所述衬底上的图案；

修改所述图案以改善所述图案的图像的厚掩模模型；以及

模拟修改后的图案的图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述修改包括：

将低通滤波器应用至所述图案或所述图案的轮廓。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案包括阶梯形图案中的多个边缘和顶点；并且

其中所述修改减少了所述图案中的边缘和顶点的数目。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟包括：

模型化对成像的三维掩模效应；

模型化对成像的源效应；以及

模型化所述光刻系统的成像光学系统的光学效应。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述模拟是不依赖于图案的。

6.根据权利要求4所述的方法，其中所述模拟还包括应用多个边缘滤波器。

7.根据权利要求6所述的方法，其中依赖于待应用的边缘的位置以及待应用的边缘的几何形状来选择每个边缘滤波器。

8.根据权利要求7所述的方法，其中还依赖于待应用的边缘附近的特征的几何形状来选择每个边缘滤波器。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述应用包括将所述多个边缘滤波器应用至每个水平边缘和每个竖直边缘。

10.根据权利要求6所述的方法，其中所述应用包括将所述多个边缘滤波器应用至所有边缘。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述模拟被用于执行源掩模优化。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，由所述源掩模优化所产生的掩模和源被用于将所述图案成像到所述衬底上。

13.一种使用光刻系统模拟待成像于衬底上的图案的系统，所述系统包括：

存储器，所述存储器用于储存待成像于所述衬底上的图案；和

处理器，所述处理器被配置和布置成：

修改所述图案以改善所述图案的图像的厚掩模模型；以及

模拟修改后的图案的图像。

14.根据权利要求13所述的系统，其中，所述处理器被配置成通过将低通滤波器应用至所述图案或其轮廓来修改所述图案。

15.一种计算机可读介质，所述计算机可读介质用机器可执行指令编码，所述机器可执行指令用于使用光刻系统模拟待成像于衬底上的图案，所述指令包括用于以下各项的指令：

获得待成像于所述衬底上的图案；

修改所述图案以改善所述图案的图像的厚掩模模型；以及

模拟修改后的图案的图像。