[发明专利]光学显微镜和使用光学显微镜记录图像的方法在审
申请号: | 202080072679.9 | 申请日: | 2020-10-12 |
公开(公告)号: | CN114616503A | 公开(公告)日: | 2022-06-10 |
发明(设计)人: | 蒂莫·安胡特;丹尼尔·施韦特 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G02B21/36;G01J1/44;G01J1/32 |
代理公司: | 上海雍灏知识产权代理事务所(普通合伙) 31368 | 代理人: | 沈汶波 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 显微镜 使用 记录 图像 方法 | ||
1.一种使用光学显微镜记录图像的方法,包括
将照明光(12)引导至样本(35);
将检测光(15)从样本(35)引导至多个光子计数传感器元件(61),其中每个光子计数传感器元件(61)连续记录多个光子计数(x);
其特征在于
形成(S3)多个待分析的光子计数分布(81-83)以及来自光子计数(x)的至少一个参考光子计数分布(80);
计算每个待分析的光子计数分布(81-83)和参考光子计数分布(80)之间的相似性;以及
根据计算出的相应的光子计数分布或待分析的光子计数分布(81-83)的相似性,将传感器元件(61)识别为过载。
2.根据前述权利要求的方法,
其特征在于
计算每个待分析的光子计数分布(81-83)和参考光子计数分布(80)之间的重新缩放;
其中计算每个待分析的光子计数分布和参考光子计数分布之间的相似性考虑各自的重新缩放。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,
其特征在于
根据待分析的光子计数分布(81-83)形成直方图和/或根据参考光子计数分布(80)形成参考光子计数分布。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,
其特征在于
选择至少一个光子计数分布作为参考光子计数分布(80)或用于形成所述参考光子计数分布(80),其中该选择根据相应光子计数分布的光子计数(x)的量级而发生。
5.根据前述权利要求所述的方法,
其特征在于
选择至少一个光子计数分布作为参考光子计数分布(80)或用于形成所述参考光子计数分布(80)的先决条件是该光子计数分布的最高光子计数(x)或由该光子计数分布的最高光子计数(x)形成的平均值低于预定上限,其中该上限特别地是属于该光子计数分布的传感器元件(61)的最大计数率乘以曝光时间的1%和30%之间。
6.根据前述两项权利要求之一的方法,
其特征在于
选择至少一个光子计数分布作为参考光子计数分布(80)或用于形成所述参考光子计数分布(80)的先决条件是根据该光子计数分布的光子计数(x)确定的信号量级测量值超过预定的最小值。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,
其特征在于
根据相应传感器元件(61)或相应传感器元件(61)的位置,选择至少一个光子计数分布以用作参考光子计数分布(80)。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的方法,
其特征在于
通过拉伸或压缩所述待分析的光子计数分布(81-83)或参考光子计数分布来计算各个待分析的光子计数分布(81-83)和参考光子计数分布(80)之间的重新缩放(80)。
9.根据权利要求2至8中任一项所述的方法,
其特征在于
重新调整至少包括以下内容:
将拟合函数(90-93)调整至参考光子计数分布(80)和各个待分析的光子计数分布(81-83)以确定拟合参数,
根据确定的拟合参数拉伸或压缩每个待分析的光子计数分布(81-83)或参考光子计数分布(80)。
10.根据权利要求2至9中任一项所述的方法,
其特征在于
相似度的计算至少包括以下步骤:计算任一待分析的光子计数分布(81-83)与参考光子计数分布(80)在重新缩放后之间的相关系数,
在计算出的相关系数低于预定最小值的情况下,相应的待分析的光子计数分布(81-83)被识别为过载。
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