[发明专利]用于分析的激光烧蚀样品的加湿

权利要求书

1.一种用于激光烧蚀样品的加湿系统，包括：

水蒸气发生器，所述水蒸气发生器被配置为控制水蒸气流的产生并将所述水蒸气流转移到激光烧蚀设备的样品腔室或与所述激光烧蚀设备流体连通的混合腔室中的至少一个，其中所述混合腔室被配置为从所述激光烧蚀设备接收激光烧蚀样品。

2.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述水蒸气生成器包括注射泵，以控制水蒸气向转移气体的引入。

3.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述注射泵被配置成在1至100μL/min的范围内控制所述水蒸气向转移气体的引入。

4.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述水蒸气发生器包括加热冷凝去溶剂化系统。

5.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述水蒸气发生器包括含水蒸气流动源、第一流动通道、惰性气体输入部、第二流动通道、以及通道膜。

6.根据权利要求5所述的增湿系统，其中，所述含水蒸气流动源被配置为提供包括水蒸气的可控流动。

7.根据权利要求6所述的增湿系统，其中，所述含水蒸气流动源进一步被配置为提供内部标准的溶液和/或校准标准的溶液中的至少一种作为所述含水蒸气的流动的一部分。

8.根据权利要求6所述的增湿系统，其中，所述通道膜是选择性渗透膜，所述选择性渗透膜被配置成允许所述水蒸气穿过所述选择性渗透膜进入所述第二流动通道。

9.根据权利要求8所述的增湿系统，其中，所述惰性气体输入部被配置成将惰性气体流提供到所述第二流动通道中，所述惰性气体用作所述转移气体，所述惰性气体流被配置成携带所述水蒸气穿过所述第二流动通道。

10.根据权利要求9所述的增湿系统，其中，添加到所述惰性气体中的水蒸气的量被配置成通过改变所述惰性气体的流率或改变所述含水蒸气的流动的温度中的至少一者而被控制在1μL/min至100μL/min的范围。

11.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述激光烧蚀设备具有与其相关联的转移气体和用于所述转移气体的一致流动路径，所述水蒸气流在沿着用于所述转移气体的所述流动路径的选定位置处被选择性地引入。

12.根据权利要求1所述的增湿系统，其中，所述水蒸气流携带至少一种感兴趣的分析物。

13.一种基于激光烧蚀的分析系统，包括：

水蒸气发生器，其被配置成控制水蒸气流的产生；

激光烧蚀设备，其流体连接到所述水蒸气发生器；

混合腔室，其流体连接到所述水蒸气发生器和所述激光烧蚀设备，所述水蒸气发生器被配置成将所述水蒸气流转移到激光烧蚀设备的样品腔室或与所述激光烧蚀设备流体连通的混合腔室中的至少一个，所述混合腔室被配置成接收来自所述激光烧蚀设备的激光烧蚀样品；

电感耦合等离子体炬，其流体连接到所述混合腔室，所述混合腔室被配置成将所述激光烧蚀样品引导到所述电感耦合等离子体炬；以及

分析设备，其流体连接到所述等离子体炬。

14.根据权利要求13所述的基于激光烧蚀的分析系统，其中，所述水蒸气发生器包括注射泵，以控制水蒸气向转移气体的引入。

15.根据权利要求13所述的基于激光烧蚀的分析系统，其中所述水蒸气发生器包括加热冷凝去溶剂化系统。

16.根据权利要求13所述的基于激光烧蚀的分析系统，其中，所述水蒸气发生器包括含水蒸气流动源、第一流动通道、惰性气体输入部、第二流动通道和通道膜。