[发明专利]防反射结构体及其制造方法

权利要求书

1.一种防反射结构体，该防反射结构体在透明的基材B的表面部S和从各孔Hn的底部起的上部方向的空间部Cn配置有金属氧化物膜，该透明的基材B形成有多个与平坦的表面垂直的方向的截面形状为U字状或V字状的孔Hn，关于该各孔Hn的形状，开口部的平均直径m为50nm～300nm，与相邻的开口部之间的各中心点的平均间隔k为100nm～400nm，并且，以表面部S为基准的各孔Hn的深度dn为80nm～250nm的范围，

该防反射结构体的特征在于，

配置于各空间部Cn的金属氧化物膜的厚度tn随着各孔Hn的深度dn变深而增加，

由此，从配置于所述表面部S的金属氧化物膜的最表面部Sm至配置于各空间部Cn内的金属氧化物膜的表面部的各孔Hn间的深度fn之差减少。

2.如权利要求1所述的防反射结构体，其中，配置于所述基材B的表面部S的金属氧化物膜为薄膜，

配置于从所述各孔Hn的底部起的上部方向的空间部Cn的金属氧化物膜为纤维状的柱状膜。

3.如权利要求1或2所述的防反射结构体，其中，所述基材B的平坦的表面部S的“算术平均粗糙度Ra”为50nm以下，该表面部S中的开口部的面积比例即开口率r为50面积％～80面积％。

4.如权利要求1～3中任一项所述的防反射结构体，其中，配置于所述基材B的表面部S的金属氧化物膜的厚度p为20nm～60nm。

5.如权利要求1～4中任一项所述的防反射结构体，其中，配置于所述基材B的表面部S的金属氧化物膜的厚度p为20nm～40nm，

关于从所述基材B的最表面部Sm至配置于从各孔Hn的底部起的上部方向的空间部Cn内的金属氧化物膜的表面部的各孔Hn的单位为nm的深度fn，

将以表面部S为基准的各孔Hn的单位为nm的深度表示为dn，将配置于表面部S的金属氧化物膜的厚度表示为p时，为下述式(i)所示的范围，

fn＝[(0.195dn+95.5)+(p-25)]×0.90～[(0.195dn+95.5)+(p-25)]×1.10···(i)。

6.如权利要求1～4中任一项所述的防反射结构体，其中，配置于所述基材B的表面部S的金属氧化物膜的厚度p为20nm～40nm，

关于从所述基材B的最表面部Sm至配置于从各孔Hn的底部起的上部方向的空间部Cn内的金属氧化物膜的表面部的各孔Hn的单位为nm的深度fn，

将以表面部S为基准的各孔Hn的单位为nm的深度表示为dn，将配置于表面部S的金属氧化物膜的厚度表示为p时，为下述式(ii)所示的范围，

fn＝[(0.195dn+95.5)+(p-25)]×0.95～[(0.195dn+95.5)+(p-25)]×1.05···(ii)。

7.如权利要求1～6中任一项所述的防反射结构体，其中，形成所述金属氧化物膜的金属氧化物为氧化硅、氧化铝、氧化钛以及氧化锆中的任一种。

8.如权利要求1～7中任一项所述的防反射结构体，其中，配置于所述表面部S的金属氧化物膜以及配置于从各孔Hn的底部起的上部方向的空间部Cn的金属氧化物膜为通过具有等离子体源的真空成膜装置形成的膜。