[发明专利]固态成像装置和电子装置在审

专利信息
申请号: 202080079978.5 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN114730781A 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 西田庆次 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 瓮芳;陈桂香
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 固态 成像 装置 电子
【权利要求书】:

1.一种固态成像装置,其包括:

多个光电转换单元,所述多个光电转换单元形成在基板上且根据入射光的光量而产生信号电荷;

微透镜阵列,所述微透镜阵列包括微透镜,所述微透镜针对包括相邻的至少两个以上的所述光电转换单元的光电转换单元组而形成且将入射光引导至所述光电转换单元组;

散射体,所述散射体布置在由所述微透镜会聚的所述入射光的光路上;和

像素间遮光部,所述像素间遮光部包括沟槽和填充在所述沟槽中的绝缘材料,所述沟槽形成在所述光电转换单元组的所述光电转换单元和与该光电转换单元组相邻的所述光电转换单元之间,其中

所述沟槽的所述散射体侧的内侧面的开口侧是以沟槽宽度朝向所述沟槽的底部变窄的方式倾斜的平面或弯曲的曲面。

2.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的底部侧是以所述沟槽宽度恒定的方式从所述基板的光接收面侧沿着深度方向延伸而形成的平面。

3.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述散射体包括散射体沟槽和填充在所述散射体沟槽中的散射体绝缘材料,所述散射体沟槽形成在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间,且

所述散射体沟槽的两个内侧面是以沟槽宽度恒定的方式从所述基板的光接收面侧沿着深度方向延伸而形成的平面。

4.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述散射体包括散射体沟槽和填充在所述散射体沟槽中的散射体绝缘材料,所述散射体沟槽形成在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间,且

所述散射体沟槽具有与所述沟槽相同的形状。

5.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述散射体布置在所述微透镜和所述基板之间,且

在所述光电转换单元组中的所述光电转换单元之间形成有杂质层。

6.根据权利要求3所述的固态成像装置,其中

所述沟槽中的所述绝缘材料的折射率低于所述散射体绝缘材料的折射率。

7.根据权利要求3所述的固态成像装置,其中

所述散射体绝缘材料是氧化钛、氮化硅、氧化锆、氧化铪、氧化钽、氧化锌和折射率高于氧化硅的折射率的高折射率树脂中的任一者。

8.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的开口侧是相对于所述基板的厚度方向以等于或大于临界角的角度倾斜的平面,所述临界角是当光从所述光电转换单元入射到所述像素间遮光部时发生全反射的最小入射角。

9.根据权利要求8所述的固态成像装置,其中

所述绝缘材料是氧化硅,且

所述临界角是20.5°。

10.根据权利要求1所述的固态成像装置,其中

所述沟槽的所述散射体侧的所述内侧面的所述开口侧是与所述基板的厚度方向所成的角度朝向所述沟槽的所述底部变小的曲面。

11.一种电子装置,其包括:

固态成像装置,其包括:

多个光电转换单元,所述多个光电转换单元形成在基板上且根据入射光的光量而产生信号电荷;

微透镜阵列,所述微透镜阵列包括微透镜,所述微透镜针对包括相邻的至少两个以上的所述光电转换单元的光电转换单元组而形成且将入射光引导至所述光电转换单元组;

散射体,所述散射体布置在由所述微透镜会聚的所述入射光的光路上;和

像素间遮光部,所述像素间遮光部包括沟槽和填充在所述沟槽中的绝缘材料,所述沟槽形成在所述光电转换单元组的所述光电转换单元和与该光电转换单元组相邻的所述光电转换单元之间,所述沟槽的所述散射体侧的内侧面的开口侧是以沟槽宽度朝向所述沟槽的底部变窄的方式倾斜的平面或弯曲的曲面;

光学透镜,所述光学透镜将来自被摄体的图像光形成在所述固态成像装置的成像面上;和

信号处理电路,所述信号处理电路对从所述固态成像装置输出的信号进行处理。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼半导体解决方案公司,未经索尼半导体解决方案公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080079978.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top