[发明专利]防反射薄膜及其制造方法、以及图像显示装置有效
申请号: | 202080082356.8 | 申请日: | 2020-11-20 |
公开(公告)号: | CN114761834B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 高见佳史;山崎由佳;宫本幸大;梨木智刚 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115;B32B7/023;B32B9/00;B32B27/18;G02B1/14;G02F1/1335;G09F9/00;H05B33/02;H10K59/124;H10K59/126;H10K50/856 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 薄膜 及其 制造 方法 以及 图像 显示装置 | ||
防反射薄膜(100)具备:在薄膜基材(10)的一个主面上具备硬涂层(11)的硬涂薄膜;在硬涂层上接触设置的底漆层(3);以及,在底漆层上接触设置的防反射层(5)。防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体。底漆层是包含In、Sn等金属的氧化物的金属氧化物层,其中,优选为氧化铟锡等铟系氧化物层。
技术领域
本发明涉及防反射薄膜及其制造方法、以及具备防反射薄膜的图像显示装置。
背景技术
出于提高显示图像的视觉辨识性的目的,有时在液晶显示器、有机EL显示器等图像显示装置的表面设置防反射薄膜。防反射薄膜在薄膜基材上具备由折射率不同的多个薄膜构成的防反射层。使用无机氧化物等的无机薄膜作为形成防反射层的薄膜而得到的防反射薄膜容易调整折射率、膜厚,因此,能够实现高的防反射特性。
防反射薄膜配置在图像显示装置的最表面,因此,出于防止由来自外部的接触导致的损伤等目的,有时在薄膜基材的防反射层形成面设置硬涂层。但是,通常由有机物形成的硬涂层与无机薄膜的层间密合力小,有时发生层间剥离。尤其是,在室外等暴露于紫外线的环境下,层间剥离的问题容易变得显著。
专利文献1中记载了:通过在硬涂层上形成由氧缺损状态(非化学计量组成)的硅氧化物(SiOx、0x2)形成的底漆层,并在其上形成防反射层,从而防反射层的密合性提高。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2016/190415号
发明内容
由非化学计量组成的硅氧化物形成的底漆层使用硅靶并通过反应性溅射来成膜。根据本发明人等的研究可明确:在硬涂层与防反射层之间设置有硅氧化物薄膜作为底漆层的防反射薄膜的防反射层的密合性、透明性等特性不稳定。鉴于该课题,本发明的目的在于,提供密合性、透明性等品质的稳定性优异的防反射薄膜。
本发明涉及防反射薄膜及其制造方法。防反射薄膜配置于例如图像显示装置的视觉辨识侧表面来使用。
防反射薄膜具备:在薄膜基材的一个主面上具备硬涂层的硬涂薄膜;在硬涂层上接触设置的底漆层;以及,在底漆层上接触设置的防反射层。硬涂层可以在包含粘结剂树脂的基础上,包含微粒。
配置在硬涂层与防反射层之间的底漆层是包含In、Sn等金属的氧化物的金属氧化物层。作为金属氧化物,优选为以氧化铟作为主要氧化物的铟系氧化物,其中,优选为氧化铟锡(ITO)。底漆层例如使用氧化物靶并通过溅射法来成膜。底漆层的厚度优选为0.5~30nm左右。
防反射层是折射率不同的多个薄膜的层叠体,各个薄膜可以为无机氧化物薄膜。防反射层通过例如溅射法来形成。防反射层也可以通过反应性溅射来成膜。
通过使配置在硬涂层与防反射层之间的底漆层为金属氧化物层,从而能够稳定地提供氧化状态的变动、偏差小,密合性、透明性等品质优异的防反射薄膜。
附图说明
图1是表示防反射薄膜的层叠形态的剖视图。
具体实施方式
图1是表示防反射薄膜的层叠构成例的剖视图。防反射薄膜100具备:在薄膜基材10的一个主面上设置有硬涂层11的硬涂薄膜1;与硬涂层11接触的底漆层3;以及,与底漆层接触的防反射层5。防反射层5是折射率不同的2层以上的无机薄膜的层叠体。在图1所示的防反射薄膜100中,防反射层5具有交替层叠有高折射率层51、53和低折射率层52、54的构成。
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