[发明专利]多源照射装置

权利要求书

1.一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，所述装置包括：

多个源，所述多个源各自被布置为发射带电粒子射束；

聚光透镜，被布置为从所述多个源接收射束；以及

操纵器阵列布置，被配置为接收已经穿过所述聚光透镜的射束；

其中

所述射束被布置为使得：在所述聚光透镜的平面处，来自至少一个源的射束与来自所述多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交；

所述聚光透镜被配置为分开地大致准直从每个源接收的射束；并且

所述操纵器阵列布置被配置为：操纵已经被所述聚光透镜大致准直的射束，从而以单列的形式生成包括来自所述多个源的带电粒子的一个或多个射束，所述操纵器阵列布置包括偏转器阵列和多射束生成器，所述偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜大致准直的所述射束，从而生成包括来自所述多个源的带电粒子的多个大致平行的经大致准直的射束，其中所述多射束生成器被配置为：

-接收由所述偏转器阵列生成的所述多个大致平行的经大致准直的射束；以及

-依据所接收的多个大致平行的经大致准直的射束，生成多射束，其中所述多射束包括多个经大致准直的子射束。

2.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述操纵器阵列布置被配置为操纵所述子射束中的至少一个子射束，所述操纵器阵列布置优选地被配置为通过向所述子射束中的至少一个子射束施加以下各项中的一项或多项来操纵所述子射束中的至少一个子射束：聚焦、偏转、横截面形状的改变、以及消隐。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述多射束是矩形、正方形、菱形或六边形的子射束阵列。

4.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括库仑孔阵列，其中

所述库仑孔阵列被布置在所述射束的在所述多个源与所述聚光透镜之间的路径中；以及

所述库仑孔阵列被布置为从所述源中的一个或多个源接收单射束，并且对于每个所接收的单射束，依据所接收的单射束输出多射束，其中所述库仑孔阵列的每个输出的多射束包括多个带电粒子子射束，使得所述聚光透镜接收并大致准直一个或多个多射束，并且所述操纵器阵列布置操纵一个或多个多射束。

5.根据任一前述权利要求所述的装置，其中从所述偏转器阵列输出的所述多个大致平行的经准直的射束与所述装置的带电粒子光轴大致平行。

6.根据任一前述条款所述的装置，其中来自每个源的射束在所述聚光透镜的所述平面中与来自其他源中的每个源的射束相交，其中所述聚光透镜优选地包括磁透镜。

7.根据任一前述权利要求所述的装置，其中来自多个源的射束在所述聚光透镜的所述平面中的中点处相交。

8.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述源中的一个或多个源中的每个源包括控制器，所述控制器用于控制由所述源发射的所述带电粒子射束的发射电流。

9.根据任一前述条款所述的装置，其中所述源中的一个或多个源中的每个源包括所述源的发射开口角度的控制器。

10.根据任一前述条款所述的装置，其中所述源中的两个或更多个源关于所述装置的带电粒子光轴对称布置。

11.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所有所述源布置在大致正交于所述装置的带电粒子光轴的平面中。

12.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述操纵器阵列布置具有射束输入，并且来自每个源的所述射束被布置为使得：在所述射束输入处并且在大致正交于所述带电粒子光轴的平面中，所述射束的照射区域大致邻接来自其他源的射束的一个或多个其他照射区域。