[发明专利]用于增强成像到衬底上的图案的目标特征的方法和系统

权利要求书

1.一种非暂时性计算机可读介质，所述非暂时性计算机可读介质上具有指令，所述指令在由计算机执行时使计算机：

确定所述衬底上的、用于成像辐射的两个或更多个不同的聚焦位置；和

基于所述两个或更多个不同的聚焦位置，在一图案的一个或更多个目标特征附近的一个或更多个部位中将一个或更多个辅助特征添加到所述图案，所添加的一个或更多个辅助特征被配置成增强所述衬底上的所述目标特征。

2.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述衬底上的所述两个或更多个不同的聚焦位置用于具有两个或更多个不同波长的成像辐射，并且是针对所述衬底对于所述成像辐射的单次曝光而被确定的。

3.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述一个或更多个辅助特征包括一个或更多个亚分辨率辅助特征。

4.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所添加的一个或更多个辅助特征被配置成通过改善所述衬底上的所述图案的所述目标特征的对称性、或所述图案的所述目标特征在所述衬底上的放置中的一个或两者来增强所述衬底上的所述目标特征。

5.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述指令还被配置成使所述计算机：通过在与所述目标特征中的一个或更多个靠近的所述一个或更多个部位中将所述一个或更多个辅助特征添加到所述图案来确定与所述衬底相关联的空间图像；以及基于所添加的一个或更多个辅助特征和所述目标特征来确定所述空间图像。

6.根据权利要求5所述的非暂时性计算机可读介质，其中，相对于在不考虑所述辅助特征的情况下所确定的不同图像中的目标特征的对称性和/或放置，所述图案的所述目标特征的对称性、或所述图案的所述目标特征在所述空间图像中的放置中的一个或两者被改善。

7.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，在与所述图案的所述一个或更多个目标特征靠近的所述一个或更多个部位中将所述一个或更多个辅助特征添加到所述图案包括：确定所述一个或更多个辅助特征相对于所述一个或更多个目标特征的形状、大小、位置和/或取向。

8.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，将所述一个或更多个辅助特征添加到所述图案通过减少由针对多焦光刻成像设备的狭缝的跨狭缝不对称性所引起的移位来增强所述目标特征。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述跨狭缝不对称性与Z2泽尼克多项式相关联。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述跨狭缝不对称性与并行的泽尼克多项式相关联。

11.根据权利要求8所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述一个或更多个辅助特征中的不同辅助特征对应于所述狭缝中的一个或更多个不同狭缝位置。

12.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，所述一个或更多个辅助特征的形状、大小、位置和/或取向被配置成使得所述一个或更多个辅助特征不被形成在所述衬底上。

13.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中，在与所述图案的所述一个或更多个目标特征靠近的所述一个或更多个部位中将一个或更多个辅助特征添加到所述图案包括对所述图案中的所述一个或更多个辅助特征以电子方式建模。

14.一种用于增强将设计布局的一部分成像到衬底上的过程的计算机实施的方法，所述方法包括：

确定所述衬底上的用于成像辐射的两个或更多个不同的聚焦位置；和

基于所述两个或更多个不同的聚焦位置，将一个或更多个辅助特征以不对称的方式放置到所述设计布局中，以在与所述设计布局中的用于成像的目标特征靠近的一个或更多个部位中进行成像。