[发明专利]用于产生辐射的装置和方法

权利要求书

1.一种用于产生辐射(112)的装置(110)，其中，所述装置(110)包括：

-至少一个辐射发射元件(116)，其中，所述辐射发射元件(116)被指定用于在由电流加热时产生辐射(112)；

-安装件(128)，其中，所述安装件(128)承载所述至少一个辐射发射元件(116)，并且其中，所述安装件(128)或其一部分(134)可移动；以及

-散热器(140)，其中，所述散热器(140)被指定用于在由所述安装件(128)接触时冷却所述安装件(128)和由所述安装件(128)承载的至少一个辐射发射元件(116)。

2.根据前述权利要求所述的装置(110)，其中，所述辐射发射元件(116)是或包括选自金属丝(114)、金属膜、石墨丝、石墨膜中的至少一个的可加热元件。

3.根据前述权利要求所述的装置(110)，其中，所述金属丝(114)或所述金属膜包括钨或NiCr，或者其中，所述石墨丝或所述石墨膜包括石墨。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的装置(110)，其中，所述安装件(128)是或包括选自悬臂(148)、膜或可移动电极(160)中的至少一个的灵活或可移动微机电结构。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的装置(110)，其中，所述安装件(128)是灵活安装件(130)。

6.根据前述两项权利要求中的任一项所述的装置(110)，其中，所述安装件(128)是或包括双金属结构。

7.根据前述权利要求所述的装置(110)，其中，所述双金属结构以以下方式设计：当其受到由所述至少一个辐射发射元件(116)提供的热量的冲击时它离开所述散热器(140)。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的装置(110)，其中，所述散热器(140)选自所述装置(110)的金属块(150)或底座(122)中的至少一个。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的装置(110)，还包括：冷却单元(152)，其被指定用于冷却所述散热器(140)。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的装置(110)，还包括法布里-珀罗腔。

11.一种用于产生辐射(112)的方法，其中，所述方法(210)包括以下步骤：

a)提供安装件(128)，其中，所述安装件(128)承载至少一个辐射发射元件(116)，并且其中，所述安装件(128)或其一部分(134)是可移动的；

b)提供电流，其中，所述电流以所述至少一个辐射发射元件(116)产生辐射(112)的方式加热所述至少一个辐射发射元件(116)；

c)终止所述电流，由此所述至少一个辐射发射元件(116)冷却；

d)以其接触散热器(140)的方式移动所述安装件(128)或其所述一部分(134)，由此所述至少一个辐射发射元件(116)冷却；以及

e)将所述安装件(128)或其所述一部分(134)从与所述散热器(140)的接触中移除。

12.根据前述权利要求所述的方法(210)，其中，在步骤e)之后，方法(210)通过步骤b)恢复，由此产生连续的辐射脉冲(112)。

13.根据前述权利要求所述的方法(210)，其中，所述脉冲辐射(112)包括调制频率，其等于用于连续执行步骤b)至e)的时间间隔的倒数值。

14.根据前述方法权利要求中的任一项所述的方法，其中，所述安装件(128)从接触所述散热器(140)离开进入独立配置，其中，所述独立配置通过将电压施加到所述安装件(140)或其所述一部分来实现。

15.一种计算机程序产品，其包括用于执行根据涉及所述方法(210)的前述权利要求中的任一项所述的方法(210)的可执行指令。