[发明专利]感光性树脂组合物、干膜及其制造方法、抗蚀剂膜、带铸模基板及镀覆造型物的制造方法在审
申请号: | 202080089540.5 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN114868081A | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 岸本友辅;川上晃也 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C07C65/05;C07C309/42;C07D493/08;C07C381/12;G03F7/039;G03F7/20;G03F7/40 |
代理公司: | 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 | 代理人: | 杨楷;毛立群 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组合 及其 制造 方法 抗蚀剂膜 铸模 镀覆 造型 | ||
1.一种化学放大型正型感光性树脂组合物,包含:产酸剂(A),通过活性光线或放射线的照射而产生酸;树脂(B),对碱的溶解性因酸的作用而增大;酸扩散抑制剂(C),其特征在于,
所述产酸剂(A)包含通过所述活性光线或放射线的照射而产生磺酸的非离子类产酸剂,
所述酸扩散抑制剂(C)包含通过所述活性光线或放射线的照射而分解的以下述式(c1)表示的化合物,
[化1]
式(c1)中,
Mm+表示m价的有机阳离子,
m表示1以上的整数,
环Z表示苯环或苯环稠合而得的多环,
环Z的苯环的数量x为1以上4以下的整数,
R1c表示取代基,
A-表示-COO-或-SO2O-,
n表示2以上2x+3以下的整数,
p表示0以上2x+3-n的整数,p为2以上的情况下,多个R1c可以相同也可以不同,多个R1c也可以连接而形成环。
2.如权利要求1所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,在环Z中,在与所述A-所键合的碳原子邻接的2个碳原子中的至少一方键合有羟基。
3.如权利要求1或2所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,以所述式(c1)表示的化合物为以下述式(c2)表示的化合物,
[化2]
式(c2)中,Mm+、R1c、A-、m、n、p分别与式(c1)中的这些相同,
q表示0以上3以下的整数,
n、p及q满足式n+p≤(q×2)+5。
4.如权利要求3所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,所述q为0以上1以下。
5.如权利要求1~4的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,所述非离子类产酸剂是从酰亚胺磺酸酯化合物及肟磺酸酯化合物构成的组中选择的至少一种。
6.如权利要求1~5的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,还含有碱可溶性树脂(D)。
7.如权利要求6所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,所述碱可溶性树脂(D)包含从酚醛清漆树脂(D1)、聚羟基苯乙烯树脂(D2)及丙烯酸树脂(D3)构成的组中选择的至少1种树脂。
8.如权利要求1~7的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物,其特征在于,还含有包含能与金属配位的硫原子的含硫化合物(E)。
9.一种感光性干膜,其特征在于,具有基材薄膜与形成于所述基材薄膜的表面的感光性层,所述感光性层由权利要求1~8的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物构成。
10.一种感光性干膜的制造方法,其特征在于,包括:
在基材薄膜上涂布权利要求1~8的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物从而形成感光性层。
11.一种图案化的抗蚀剂膜的制造方法,其特征在于,包括:
层叠工序,在基板上层叠由权利要求1~8的任一项所述的化学放大型正型感光性树脂组合物构成的感光性层;
曝光工序,对所述感光性层位置选择性地照射活性光线或放射线来进行曝光;
显影工序,对曝光后的所述感光性层进行显影。
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