[发明专利]通过图案化经表皮色素释放去除纹身的模板和方法

权利要求书

1.一种使用图案化经表皮色素释放来去除纹身的方法，所述方法包括：

使用初级模板确定患者皮肤的第一处理区域，所述初级模板在所述患者皮肤上提供定义初级被膜的指示；

在第一处理阶段中，将所述初级被膜中的所述组织破坏至包含染墨组织的深度，以形成第一焦痂；

使用次级模板确定皮肤的第二处理区域，所述次级模板标记插入在初级被膜之间的次级被膜；

在第二处理阶段中，将所述第二被膜中的所述组织破坏至包含染墨组织的深度，以形成第二焦痂；

其中所述初级被膜和次级被膜不重叠。

2.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述次级被膜中的所述组织隔离了三级被膜网格中的多个残余纹身区域，并且其中所述方法进一步包括在第三处理阶段破坏所述三级被膜中的所述组织。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述次级被膜是非圆形和非多边形的。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述初级模板包括柔性、不可拉伸的材料片。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述初级模板包括投影在所述患者皮肤上的图像。

6.根据权利要求1所述的方法，其中在所述患者皮肤上提供指示的所述步骤包括将适当的轨迹编程到计算机控制的设备中。

7.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的所述步骤包括对所述组织施加机械破坏。

8.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的所述步骤包括对所述组织施加温度变化。

9.根据权利要求8所述的方法，其中用于施加所述温度变化的探针的温度用于至少部分地控制组织破裂的所述深度。

10.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的所述步骤包括向所述组织施加化学剂。

11.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的所述步骤包括向所述组织施加辐射。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述初级模板包括反射部分，所述反射部分在由所述反射部分覆盖的区域中抵抗能量沉积。

13.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的步骤包括向所述组织施加聚焦波。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述聚焦波的频率用于至少部分地控制组织破裂的所述深度。

15.根据权利要求1所述的方法，其中破坏所述组织的步骤包括将聚焦粒子施加到所述组织。

16.根据权利要求1所述的方法，其中所述模板结合通过待处理区域的先前执行的扫描获得的关于待处理区域的信息。

17.根据权利要求16所述的方法，其中关于所述待处理区域的所述信息包括关于色素沉着的信息。

18.根据权利要求17所述的方法，其中破坏所述组织包括向所述待处理区域施加可变能量，并且其中色素较少的区域比色素较深的区域接收相对较少的能量。

19.根据权利要求16所述的方法，其中所述待处理区域的自然特征用作定向所述初级模板的配准标记。