[发明专利]通过等离子体频谱在动态等离子体条件下的过程控制和监控方法

权利要求书

1.一种用于检测PECVD工艺中异常的方法，包括以下步骤：

通过相对于第一电极移动第二电极来改变腔室中的等离子体强度；

提供用以测量改变的等离子体强度所在的波长范围；

定义描述在所述波长范围内的所述改变的等离子体强度的函数；和

显示基于所述函数的SPC参考值，所述SPC参考值包含以下值之一：所述函数、所述函数的导数和所述函数的积分之一的最大值、最小值、平均数、中位数、众数和平均值。

2.如权利要求1所述的方法，进一步包括以下步骤：

通过相对于所述第一电极移动所述第二电极来改变所述腔室中的第二等离子体强度；

定义描述在所述波长范围内的改变的第二等离子体强度的第二函数；

显示来自所述第二函数的至少一个第二值，所述至少一个第二值包含以下值之一：所述第二函数、所述第二函数的导数和所述第二函数的积分之一的最大值、最小值、平均数、中位数、众数和平均值；和

将所述SPC参考值与所述至少一个第二值比较，

其中所述SPC参考值与所述至少一个第二值的差异指示出异常的存在；和

更新用户显示以指示出所述异常的存在。

3.如权利要求2所述的方法，其中多次执行所述改变所述等离子体强度的步骤，以定义描述在所述波长范围内改变的等离子体强度的多个函数，所述多个函数包括以下函数之一：所述多个函数中各个函数中的每个函数、所述多个函数中至少一个函数的导数、和所述多个函数中一个函数的至少一个积分；和

从所述多个函数中各个函数中的每个函数中提取至少一个值，每个至少一个值包含以下值之一：所述多个函数中各个函数中的每个函数的最大值、最小值、平均数、中位数、众数和平均值。

4.如权利要求3所述的方法，进一步包括以下步骤：绘制每个来自所述多个函数中各个函数中的每个函数的至少一个值，以进一步包括所述SPC参考值，其中所述第二值与来自所述多个函数中各个函数中的每个函数的所述至少一个值中至少一个值相差至少一个标准差。

5.如权利要求1所述的方法，其中定义所述函数的步骤包括以下步骤：

从所述波长范围，提供相对强度的乘积/比(product/ratio)，所述相对强度的所述乘积/比具有在时间t时所述函数的数值所定义的数值分量；

将第一指数系数赋值到所述数值分量；和

将第二指数系数赋值到所述乘积/比。

6.如权利要求5所述的方法，进一步包括以下步骤：调整所述第一指数系数和所述第二指数系数之一，使得所述第二值相对于所述SPC参考值呈现为异常。

7.一种用于检测PECVD工艺中异常的系统，包括：

PECVD腔室；和

频谱分析仪，所述频谱分析仪耦接至所述PECVD腔室并且被构造成用以测量等离子体强度，所述频谱分析仪被构造成用以执行一种用于检测异常的方法，所述方法包括以下步骤：

通过相对于第一电极移动第二电极来改变腔室中的等离子体强度；

提供用以测量改变的等离子体强度所在的第一波长范围；

定义描述在所述第一波长范围内的所述改变的等离子体强度的函数；和

从所述函数提取至少一个值，所述至少一个值包含以下值之一：所述函数、所述函数的导数和所述函数的积分之一的最大值、最小值、平均数、中位数、众数和平均值。