[发明专利]一种多晶硅清洗机和清洗多晶硅的方法

说明书

本发明公开了一种多晶硅清洗机和清洗多晶硅的方法，具体涉及多晶硅技术领域，其技术方案是：包括循环装置、工作箱、驱动装置、清洗箱和旋转装置，所述循环装置包括水泵，所述水泵输入端通过管道插接在集液箱内壁，所述水泵输出端插接管道，所述管道输出端连接循环接口，所述工作箱顶部外侧两端固定安装所述循环接口，所述工作箱顶部内侧两端固定安装注液接口，所述工作箱顶部内壁两端开设有进液槽，所述循环接口和所述注液接口输入端连接所述进液槽，所述进液槽输出端均匀连接三组喷头；所述驱动装置包括盒体，本发明的有益效果是：通过对清洗后的液体进行循环利用，不仅节约了资源，还降低了成本的投入。

技术领域

本发明涉及多晶硅领域，具体涉及一种多晶硅清洗机和清洗多晶硅的方法。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态，熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅，多晶硅具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料，但微量的杂质即可大大影响其导电性，多晶硅是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料，被称为微电子大厦的基石，多晶硅的生产加工过程主要包括对晶硅的清洗、检测—坩埚喷涂—对晶硅的铸锭—硅锭剖方—硅块检验—去头尾—磨面—倒角—粘胶—切片—硅片脱胶—硅片清洗—硅片检验—硅片包装—硅片入库，无论是在多晶硅加工前后，都需要对其进行清洗，但是在对多晶硅进行清洗时，一般需要用药液对其进行清洗。

现有技术存在以下不足：现有的多晶硅清洗机并不能有效的对多晶硅进行清洗，这样就会将降低清洗质量，从而会影响到多晶硅的后续工序，并且现有的多晶硅清洗机并不能对清洗后的液体进行循环利用，从而会造成资源浪费和提高成本的投入。

因此，发明一种多晶硅清洗机很有必要。

发明内容

为此，本发明提供一种多晶硅清洗机和清洗多晶硅的方法，通过驱动装置带动清洗箱进行旋转移动，然后再通过旋转装置带动滚筒毛刷一和滚筒毛刷二进行旋转，从而对多晶硅进行有效清洗，以及再通过循环装置对清洗后的液体进行循环利用，以解决现有的多晶硅清洗机并不能有效的对多晶硅进行清洗和现有的多晶硅清洗机并不能对清洗后的液体进行循环利用的问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种多晶硅清洗机，包括循环装置、工作箱、驱动装置、清洗箱和旋转装置，所述循环装置包括水泵，所述水泵输入端通过管道插接在集液箱内壁，所述水泵输出端插接管道，所述管道输出端连接循环接口，所述工作箱顶部外侧两端固定安装所述循环接口，所述工作箱顶部内侧两端固定安装注液接口，所述工作箱顶部内壁两端开设有进液槽，所述循环接口和所述注液接口输入端连接所述进液槽，所述进液槽输出端均匀连接三组喷头；

所述驱动装置包括盒体，所述盒体内壁固定安装液压缸，所述液压缸输出端插接在箱体一内壁，所述箱体一内壁固定安装伺服电机一，所述伺服电机一输出端插接在所述清洗箱内壁；

所述清洗箱中部内壁两端插接轴承一，两组所述轴承一内壁插接滚筒毛刷一，所述清洗箱内壁两端呈方形排列插接轴承二，两组所述轴承二内壁插接滚筒毛刷二；

所述旋转装置包括箱体二，所述箱体二内壁插接伺服电机二，所述伺服电机二输出端插接在左端所述轴承一内壁，所述滚筒毛刷一左端插接在主动齿轮内壁，所述滚筒毛刷二左端插接在从动齿轮内壁，所述主动齿轮啮合连接所述从动齿轮。

优选的，所述工作箱底部两端固定安装所述集液箱，所述工作箱底部两端通过支撑板固定安装所述水泵，所述水泵位于所述集液箱下方。

优选的，所述工作箱底部内壁两端均匀开设有过滤孔，所述过滤孔位于所述集液箱内侧。

优选的，所述工作箱底部中端内壁固定安装隔板。

优选的，所述工作箱外壁右端固定安装所述盒体。

优选的，所述清洗箱左端内壁固定安装挡板，所述主动齿轮和所述从动齿轮位于所述挡板与所述清洗箱之间。