[发明专利]有机电致发光装置和电子设备有效

专利信息
申请号: 202110001887.6 申请日: 2021-01-04
公开(公告)号: CN113078273B 公开(公告)日: 2023-08-11
发明(设计)人: 深川刚史;色部润;山本哲也 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H10K50/84 分类号: H10K50/84;H10K59/35;H10K71/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 邓毅;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 有机 电致发光 装置 电子设备
【说明书】:

有机电致发光装置和电子设备,质量可靠性优异。有机电致发光装置具有:有机电致发光元件;以及保护层,其保护所述有机电致发光元件,所述保护层具有第1绝缘膜、第2绝缘膜、第3绝缘膜、第4绝缘膜和第5绝缘膜,所述第2绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第4绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜各自包含含有硅和氮的无机材料。

技术领域

本发明涉及有机电致发光装置和电子设备。

背景技术

已知具备有机EL元件的有机EL(电致发光)装置。有机EL装置例如被用作显示图像的有机EL显示器。

专利文献1所记载的有机EL装置具备有机EL元件和覆盖有机EL元件的保护膜。该保护膜具有防止水分侵入有机EL元件的功能。该保护膜是由3个膜构成的层叠膜。具体而言,层叠膜例如包含由氮化硅膜构成的第1绝缘膜、由氧化铝膜构成的第2绝缘膜、以及由氮化硅膜构成的第3绝缘膜。第1绝缘膜和第3绝缘膜分别通过CVD法(化学气相生长法)形成。第2绝缘膜通过ALD法(原子层沉积法)形成。此外,第2绝缘膜为了填埋形成于第1绝缘膜的针孔而形成。

专利文献1:日本特开2018-28996号公报

在专利文献1中,第2绝缘膜由与第1绝缘膜和第3绝缘膜的各自不同的材料构成。因此,在光透过保护膜的情况下,由于保护膜具有的各膜间的折射率差引起的界面反射的影响大,所以有可能对有机EL装置的光学特性产生影响。另外,为了抑制该影响,考虑减少保护膜所具有的绝缘膜的数量。但是,当绝缘膜的总数减少时,保护膜的密封性能有可能受损。

发明内容

本发明的有机电致发光装置的一个方式具有:有机电致发光元件;以及保护层,其保护所述有机电致发光元件并具有透光性,所述保护层具有第1绝缘膜、第2绝缘膜、第3绝缘膜、第4绝缘膜和第5绝缘膜,在远离所述有机电致发光元件的方向上,按照所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜的顺序进行排列,所述第2绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第4绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜各自由含有硅和氮的无机材料构成。

本发明的有机电致发光装置的一个方式具有:有机电致发光元件;以及保护层,其保护所述有机电致发光元件并具有透光性,所述保护层具有第1绝缘膜、第2绝缘膜、第3绝缘膜、第4绝缘膜和第5绝缘膜,在远离所述有机电致发光元件的方向上,按照所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜的顺序进行排列,所述第2绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第4绝缘膜的密度比所述第1绝缘膜、所述第3绝缘膜和所述第5绝缘膜各自的密度高,所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜中的任意2个绝缘膜之间在可见光区域中的折射率之差为0.2以内。

本发明的电子设备的一个方式具有:所述有机电致发光装置;以及控制部,其对所述有机电致发光装置的动作进行控制。

在本发明的有机电致发光装置的制造方法的一个方式中,包含以下工序:在基板上形成有机电致发光元件;通过使用了等离子体的化学气相沉积法,在所述有机电致发光元件上形成第1绝缘膜;通过使用了等离子体的原子层沉积法,在所述第1绝缘膜上形成第2绝缘膜;通过使用了等离子体的化学气相沉积法,在所述第2绝缘膜上形成第3绝缘膜;通过使用了等离子体的原子层沉积法,在所述第3绝缘膜上形成第4绝缘膜;以及通过使用了等离子体的化学气相沉积法,在所述第4绝缘膜上形成第5绝缘膜,所述第1绝缘膜、所述第2绝缘膜、所述第3绝缘膜、所述第4绝缘膜和所述第5绝缘膜各自由含有硅和氮的无机材料构成。

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