[发明专利]一种镀膜基板的均匀控温装置及方法

权利要求书

1.一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，包括镀膜基板(6)，其特征在于：它包括固定结构、设有液体流道(4)的导热结构以及用于带动液体流道(4)内的液体循环流动的液体循环系统，所述镀膜基板(6)固定在固定结构内，所述固定结构设置在导热结构上，而且所述镀膜基板(6)与导热结构之间还设有密闭空腔，并且它还包括用于带动密闭空腔内的气体循环流动的气体循环系统。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：所述导热结构包括导热板(2)以及背板(3)，且所述背板(3)朝向导热板(2)一侧设有液体流道(4)，且所述导热板(2)与背板(3)将液体流道(4)密封。

3.根据权利要求2所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：所述固定结构包括掩膜挡板(8)、密封圈(7)、橡胶垫圈(9)以及锁紧件(10)，所述掩膜挡板(8)通过锁紧件(10)锁紧在导热板(2)上，且所述镀膜基板(6)一端面边缘通过橡胶垫圈(9)与掩膜挡板(8)相抵，镀膜基板(6)另一端面边缘通过密封圈(7)与导热板(2)相抵，且所述镀膜基板(6)、密封圈(7)以及导热板(2)三者形成密闭空腔。

4.根据权利要求3所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：所述导热板(2)以及背板(3)上设有供气体流通的进气通道与出气通道，且所述气体循环系统包括进气管(12)、出气管(13)、气源(14)、气体流量计(15)、开关阀(16)、真空计(17)、节流阀(19)以及真空泵(20)，所述气源(14)通过进气管(12)与进气通道连通，且气源(14)与进气通道之间还设有开关阀(16)、气体流量计(15)与真空计(17)，所述真空泵(20)通过出气管(13)与出气通道连通，且所述真空泵(20)与出气通道之间还设有节流阀(19)。

5.根据权利要求4所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：它还包括镀膜室(1)与旁通阀(18)，所述固定结构以及导热结构均设置在镀膜室(1)内，且真空泵(20)与出气通道之间的出气管(13)还通过旁通阀(18)与镀膜室(1)连通。

6.根据权利要求2所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：所述导热板(2)内均匀嵌设多个测温探头(21)。

7.根据权利要求1所述的一种镀膜基板(6)的均匀控温装置，其特征在于：所述气体循环系统中流通的气体为氦气，所述液体循环系统中流通的液体为导热油。

8.一种镀膜基板的均匀控温方法，其特征在于，它包括以下步骤：

S1、将镀膜基板固定安装好；

S2、打开旁通阀，然后将镀膜室预抽至真空；

S3、关闭旁通阀，开始对基板控温和镀膜；

S4、控制气体循环系统工作，使镀膜基板与导热板之间的气体流动，同时控制液体循环系统工作，使液体流道内的液体流动；

S5、镀膜完成，打开镀膜室同时打开旁通阀，取出镀膜基板。

9.根据权利要求8所述的一种镀膜基板的均匀控温方法，其特征在于：在镀膜时，还需要采集多个测温探头测得的温度信息，并且计算得到多个测温探头之间的温差极值，判断得到的温差极值是否超过设定的阈值，若超过，则控制气体循环系统，调节气体流量和压力；若没有超过，则继续采集计算。

10.根据权利要求8所述的一种镀膜基板的均匀控温方法，其特征在于：在镀膜时，还需要采集多个测温探头测得的温度信息，并且计算多个测温探头的平均温度，判断平均温度是否超过设定的阈值，若超过，则控制液体循环系统，调节液体温度；若没有超过，则继续采集计算。